WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2014128794) フォトマスク及びそのパターンデータ作成方法、並びにフォトマスクを用いたパターン形成方法及び加工方法。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/128794    国際出願番号:    PCT/JP2013/005895
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 03.10.2013
IPC:
G03F 1/32 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
発明者: MISAKA, Akio;
代理人: FUJII, Kentaro; c/o Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd., 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
優先権情報:
2013-033122 22.02.2013 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK, AND METHOD FOR CREATING PATTERN DATA THEREOF, AND PATTERN FORMING METHOD AND PROCESSING METHOD USING PHOTOMASK
(FR) PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE CRÉATION DE DONNÉES DE MOTIF DE CELUI-CI ET PROCÉDÉ FORMANT MOTIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT UTILISANT UN PHOTOMASQUE
(JA) フォトマスク及びそのパターンデータ作成方法、並びにフォトマスクを用いたパターン形成方法及び加工方法。
要約: front page image
(EN)A photomask includes: a light-shielding section provided on a translucent substrate; a main pattern section that is an opening provided in an area corresponding to a desired pattern of the light-shielding section; and an auxiliary pattern section that includes a plurality of auxiliary patterns having the same phase that are openings provided in peripheral areas around the area corresponding to the desired pattern of the light-shielding section, the openings being provided along edges that form the outline of the desired pattern, wherein the openings transmit light having the same phase as that of light transmitted through the main pattern section. The auxiliary patterns having the same phase are provided at positions at a distance of √(2×n×G×λ) from the edges that form the outline of the desired pattern. Exposure light that has been transmitted through the auxiliary pattern section forms a projected image in which light intensity at the edges forming the outline of the desired pattern is intensified on an exposed matter (where G represents a gap length between the photomask and the exposed matter, λ represents a wavelength of the exposure light, and n represents a natural number).
(FR)La présente invention porte sur un photomasque qui comprend : une section d'écrantage vis-à-vis de la lumière disposée sur un substrat translucide; une section de motif principal qui est une ouverture disposée dans une zone correspondant à un motif désiré de la section d'écrantage vis-à-vis de la lumière; et une section de motifs auxiliaires qui comprend une pluralité de motifs auxiliaires ayant la même phase qui sont des ouvertures disposées dans des zones périphériques autour de la zone correspondant au motif désiré de la section d'écrantage vis-à-vis de la lumière, les ouvertures étant disposées le long de bords qui forment le contour du motif désiré, les ouvertures émettant une lumière ayant la même phase que celle d'une lumière émise à traves la section de motif principal. Les motifs auxiliaires ayant la même phase sont disposés au niveau de positions à une distance de √(2×n×G×λ) depuis les bords qui forment le contour du motif désiré. Une lumière d'exposition qui a été émise à travers la section de motifs auxiliaires forme une image projetée dans laquelle une intensité lumineuse au niveau des bords formant le contour du motif désiré est intensifiée sur une matière exposée (G représentant une longueur d'intervalle entre le photomasque et la matière exposée, λ représentant une longueur d'onde de la lumière d'exposition, et n représentant un nombre naturel).
(JA) 透光性基板に設けられた遮光部と、遮光部の所望のパターンと対応する領域に設けられた開口部である主パターン部と、遮光部の所望のパターンと対応する位置の周辺部で且つその輪郭部を構成する辺に沿って設けられ、主パターン部を透過する光と同位相の光を透過する開口部である複数の同位相補助パターンを含む補助パターン部とを備えている。同位相補助パターンは、所望のパターンの輪郭部を構成する辺から√(2×n×G×λ)の位置に設けられる。補助パターン部を透過した露光光は、被露光体に所望のパターンの輪郭部を構成する辺における光強度が強調された投影像を結ぶ(但し、Gはフォトマスクと被露光体とのギャップ長を表し、λは露光光の波長を表し、nは自然数を表す。)。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)