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1. (WO2014126117) バリア層形成用組成物、バリア層付き半導体基板、太陽電池用基板の製造方法及び太陽電池素子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/126117    国際出願番号:    PCT/JP2014/053227
国際公開日: 21.08.2014 国際出願日: 12.02.2014
IPC:
H01L 21/22 (2006.01), H01L 31/06 (2012.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
発明者: ORITA, Akihiro; (JP).
YOSHIDA, Masato; (JP).
NOJIRI, Takeshi; (JP).
KURATA, Yasushi; (JP)
代理人: TAIYO, NAKAJIMA & KATO; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
2013-024351 12.02.2013 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR FORMING BARRIER LAYER, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH BARRIER LAYER, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR SOLAR CELLS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL ELEMENT
(FR) COMPOSITION POUR FORMATION DE COUCHE BARRIÈRE, SUBSTRAT DE SEMI-CONDUCTEUR À COUCHE BARRIÈRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT POUR CELLULES SOLAIRES, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE CELLULE SOLAIRE
(JA) バリア層形成用組成物、バリア層付き半導体基板、太陽電池用基板の製造方法及び太陽電池素子の製造方法
要約: front page image
(EN)A composition for forming a barrier layer, which contains an organic binder, a dispersion medium, and at least one silicon-containing compound that is selected from the group consisting of at least one alkoxysilane represented by (R1)4-nSi(OR2)n (general formula (1)), polysilazanes and siloxane resins obtained by hydrolyzing and condensation polymerizing the above-described alkoxysilane, and which has a viscosity of from 1 Pa·s to 100 Pa·s at 25°C. In the formula, each of R1 and R2 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1-6 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group; and n represents an integer of 1-4. In cases where two or more R1 or R2 moieties are contained, the R1 moieties or the R2 moieties may be the same as or different from each other, respectively.
(FR)L'invention concerne une composition de formation d'une couche barrière, qui contient un liant organique, un milieu de dispersion, et au moins un composé contenant du silicium qui est choisi parmi le groupe comprenant au moins un alcoxysilane représenté par (R1)4-nSi(OR2)n (formule générale (1)), des polysilazanes et des résines de siloxane obtenues par hydrolyse et polymérisation par condensation de l'alcoxysilane décrit ci-dessus, et qui possède une viscosité d'entre 1 Pa·s et 100 Pa·s à 25°C. Dans la formule, chacun de R1 et R2 représente indépendamment un groupement hydrocarbure aliphatique ayant de 1 à 6 atomes de carbone ou un groupement hydrocarbure aromatique ; et n représente un entier de 1 à 4. Dans des cas où au moins deux parties R1 ou R2 sont contenues, les parties R1 ou les parties R2 peuvent être identiques ou différentes l'une de l'autre, respectivement.
(JA) 一般式1:(R4-nSi(ORで表される少なくとも一種のアルコキシシラン、ポリシラザン、及び前記アルコキシシランを加水分解し縮合重合させたシロキサン樹脂からなる群より選択される少なくとも一種のケイ素含有化合物と、有機バインダと、分散媒とを含有し、25℃における粘度が1Pa・s~100Pa・sであるバリア層形成用組成物。式中、R及びRは、各々独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、nは1~4のいずれかの整数を表す。R又はRが2以上含まれる場合、各R又は各Rは同一であっても異なってもよい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)