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1. (WO2014126034) インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機EL表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/126034    国際出願番号:    PCT/JP2014/053024
国際公開日: 21.08.2014 国際出願日: 10.02.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/16 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: YAMASHITA Shie; (JP).
FUJIMOTO Shinji; (JP)
代理人: NOGUCHI Yasuhiro; (JP)
優先権情報:
2013-027048 14.02.2013 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INKJET APPLICATION, HEAT-TREATED SUBSTANCE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, RESIN-PATTERN MANUFACTURING METHOD, LIQUID-CRYSTAL DISPLAY, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY, TOUCH PANEL, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TOUCH-PANEL DISPLAY
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR APPLICATION À JET D'ENCRE, SUBSTANCE TRAITÉE THERMIQUEMENT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF DE RÉSINE, AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, PANNEAU TACTILE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET AFFICHAGE À PANNEAU TACTILE
(JA) インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機EL表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a photosensitive resin composition that exhibits excellent inkjet discharge properties and storage stability, dries rapidly, and after heat treatment, is highly transparent. This photosensitive resin composition for inkjet application is characterized by containing the following: inorganic particles (component A); a solvent (component B); a polymer (component C) containing a constitutional unit that has a group in which an acid group is protected by an acid-degradable group; and a photoacid generator (component D). This photosensitive resin is further characterized in that component B contains a non-alcohol solvent that has a boiling point between 177°C and 227°C, inclusive, and an I/O value between 0.50 and 1.00, inclusive.
(FR)L'objet de la présente invention est de produire une composition de résine photosensible qui présente des propriétés de décharge de jet d'encre et une stabilité d'entreposage excellentes, sèche rapidement, et, après traitement thermique, est hautement transparente. Cette composition de résine photosensible pour application à jet d'encre est caractérisée en ce qu'elle contient les éléments suivants : des particules inorganiques (composant A) ; un solvant (composant B) ; un polymère (composant C) contenant une unité constitutionnelle qui a un groupe dans lequel un groupe acide est protégé par un groupe dégradable à l'acide ; et un générateur de photoacide (composant D). Cette résine photosensible est en outre caractérisée en ce que le composant B contient un solvant non alcoolique dont le point d'ébullition est compris entre 177 °C et 227 °C inclus et dont la valeur E/S est comprise entre 0,50 et 1,00 inclus.
(JA) インクジェット吐出性、乾燥性、保存安定性、及び、熱処理後の透明性に優れた感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 本発明のインクジェット塗布用感光性樹脂組成物は、(成分A)無機粒子、(成分B)溶剤、(成分C)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を含む重合体、及び、(成分D)光酸発生剤を含有し、成分Bが、沸点が177℃以上227℃以下であり、かつ、I/O値が0.50以上1.00以下の非アルコール系溶剤を含むことを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)