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1. (WO2014125994) 半導体装置及びその設計方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/125994    国際出願番号:    PCT/JP2014/052776
国際公開日: 21.08.2014 国際出願日: 06.02.2014
IPC:
H01L 21/822 (2006.01), G06F 17/50 (2006.01), H01L 21/82 (2006.01), H01L 21/8242 (2006.01), H01L 27/04 (2006.01), H01L 27/108 (2006.01)
出願人: PS5 LUXCO S.A.R.L. [LU/LU]; 208, Val des Bons Malades, L-2121 Luxembourg (LU) (米国を除く全ての指定国).
FUKUHARA, Naohiro [JP/JP]; (JP) (US only).
NAGAMINE, Hisayuki [JP/JP]; (JP) (US only)
発明者: FUKUHARA, Naohiro; (JP).
NAGAMINE, Hisayuki; (JP)
代理人: IKEDA, Noriyasu; Hibiya Daibiru Bldg., 2-2, Uchisaiwaicho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP)
優先権情報:
2013-029390 18.02.2013 JP
発明の名称: (EN) SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR DESIGNING SAME
(FR) DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE CONCEPTION ASSOCIÉ
(JA) 半導体装置及びその設計方法
要約: front page image
(EN)There has been a problem of having semiconductor devices wherein measurement values as designed are not obtained even if optical proximity correction (OPC) is performed by forming dummy patterns. Disclosed is a semiconductor device wherein dummy patterns corresponding to respective gate patterns having different shapes are provided in a region having the gate patterns.
(FR)Selon l'invention, il existait un problème de fourniture de dispositifs semi-conducteurs dans lesquels des valeurs de mesure telles que conçues ne sont pas obtenues même si une correction de proximité optique (OPC) est réalisée par formation de motifs factices. L'invention concerne un dispositif semi-conducteur dans lequel des motifs factices correspondant à des motifs de grille respectifs ayant différentes formes sont disposés dans une région comprenant les motifs de grille.
(JA) ダミーパターンを形成してOPCを施しても、設計値通りの測定値が得られない半導体装置が見出された。互いに異なる形状のゲートパターンを有する領域に、各ゲートパターンに応じたダミーパターンを設けた半導体装置が得られる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)