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1. (WO2014125972) 連続メッキ用パターニングロール及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/125972    国際出願番号:    PCT/JP2014/052621
国際公開日: 21.08.2014 国際出願日: 05.02.2014
IPC:
C25D 7/06 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01)
出願人: THINK LABORATORY CO., LTD. [JP/JP]; 1201-11, Takada, Kashiwa-shi, Chiba 2778525 (JP)
発明者: SHIGETA, Tatsuo; (JP)
代理人: ISHIHARA, Shinsuke; c/o ISHIHARA & COMPANY,p.c., 2F Segawa-Ikebukuro Bldg., 14-10, Minami-Ikebukuro 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 1710022 (JP)
優先権情報:
2013-024702 12.02.2013 JP
発明の名称: (EN) CONTINUOUS PLATING PATTERNING ROLL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) ROULEAU DE FORMATION DE MOTIFS À MÉTALLISATION CONTINUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION S'Y RAPPORTANT
(JA) 連続メッキ用パターニングロール及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are a continuous plating patterning roll, which solves the problem of side etching and has excellent insulating layer adhesiveness, and a manufacturing method therefor. The continuous plating patterning roll is configured so as to be obtained by: coating a photoresist on the surface of a platable cylindrical metal substrate and exposing/developing same to form resist pattern sections and non-resist pattern sections; etching the cylindrical metal substrate of the non-resist pattern sections to form etched depressions; forming a DLC coating film on the etched depressions and the surface of the resist pattern sections; and peeling the DLC coating film formed on the resist pattern section from each resist pattern section and leaving the DLC coating film in the etched depressions.
(FR)L'invention porte sur un rouleau de formation de motifs à métallisation continue, qui permet de résoudre le problème de minage et qui a une excellente adhérence de la couche isolante, et sur un procédé de fabrication s'y rapportant. Le rouleau de formation de motifs à métallisation continue est conçu afin d'être obtenu par : application d'une résine photosensible en revêtement sur la surface d'un substrat métallique cylindrique qui peut être métallisé et exposition/développement de celle-ci pour former des sections de motifs de réserve et des sections de motifs sans réserve ; gravure du substrat métallique cylindrique des sections de motifs sans réserve pour former des dépressions gravées ; formation d'un film de revêtement de carbone sous forme de diamant amorphe (DLC) sur les dépressions gravées et la surface des sections de motifs de réserve ; et pelage du film de revêtement de DLC formé sur la section de motifs de réserve de chaque section de motifs de réserve, le film de revêtement de DLC étant laissé dans les dépressions gravées.
(JA) サイドエッチングの問題を解消し、絶縁層の密着性に優れた連続メッキ用パターニングロール及びその製造方法を提供する。 メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、露光・現像せしめてレジストパターン部と非レジストパターン部を形成し、前記非レジストパターン部の前記円筒状金属基材をエッチングせしめてエッチング凹部を形成し、前記エッチング凹部及びレジストパターン部の表面にDLC被覆膜を形成し、前記レジストパターン部上に形成されたDLC被覆膜を前記レジストパターン部ごと剥離せしめ、前記エッチング凹部内に前記DLC被覆膜が残存してなるようにした。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)