WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2014123107) 化合物、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/123107    国際出願番号:    PCT/JP2014/052530
国際公開日: 14.08.2014 国際出願日: 04.02.2014
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), C07D 493/04 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
発明者: ECHIGO, Masatoshi; (JP).
MAKINOSHIMA, Takashi; (JP).
UCHIYAMA, Naoya; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES, 23rd Floor, Roppongi Hills Mori Tower, 6-10-1, Roppongi, Minato-ku, Tokyo 1066123 (JP)
優先権情報:
2013-023809 08.02.2013 JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSÉ, SUBSTANCE FORMATRICE DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE AINSI QUE PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 化合物、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
要約: front page image
(EN)This material for forming an underlayer film for lithography contains a compound having a structure represented by general formula (1). (In formula (1): X each independently is an oxygen atom or a sulfur atom; R1 is a single bond or a 2n-valent hydrocarbon group having 1-30 carbon atoms, the hydrocarbon group optionally having a cyclic hydrocarbon group, a double bond, a heteroatom, or an aromatic group having 6-30 carbon atoms; R2 is a straight-chain, branched, or cyclic alkyl group having 1-10 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, an alkenyl group having 2-10 carbon atoms, or a hydroxyl group; m is an integer from 0 to 3; n is an integer from 1 to 4; p is 0 or 1; and q is an integer from 1 to 100.)
(FR) La substance formatrice de sous-couche pour lithographie de cette invention contient un composé dont la structure est représentée par la formule générale (1). (Dans cette formule générale (1): chaque X représente indépendamment un atome d'oxygène ou un atome de soufre; R1 représente une liaison simple ou un groupe hydrocarbure de valence 2n et ayant 1 à 30 atomes de carbone, ce groupe hydrocarbure pouvant posséder un groupe hydrocarbure cyclique, une liaison double, un hétéroatome ou un groupe aromatique avec 6 à 30 atomes de carbone; R2 représente un groupe alkyle à chaîne linéaire, à chaîne ramifiée ou cyclique avec 1 à 10 atomes de carbone, un groupe aryle avec 6 à 10 atomes de carbone, un groupe alcényle avec 2 à 10 atomes de carbone ou un groupe hydroxyle; m est un nombre entier de 0 à 3; n est un nombre entier de 1 à 4; p vaut 0 ou 1; et q est un nombre entier de 1 à 100.
(JA) 本発明のリソグラフィー用下層膜形成材料は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物を含有する。(式(1)中、Xは、各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、Rは、単結合又は炭素数1~30の2n価の炭化水素基であり、該炭化水素基は、環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子又は炭素数6~30の芳香族基を有していてもよく、Rは、炭素数1~10の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6~10のアリール基、炭素数2~10のアルケニル基又は水酸基であり、mは、0~3の整数であり、nは、1~4の整数であり、pは、0又は1であり、qは、1~100の整数である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)