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1. (WO2014123105) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/123105    国際出願番号:    PCT/JP2014/052528
国際公開日: 14.08.2014 国際出願日: 04.02.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, NISHIAZABU 2-chome, MINATO-KU, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: YOSHINO, Fumihiro; (JP)
代理人: KURATA, Masatoshi; c/o SUZUYE & SUZUYE, 6th floor, Kangin-Fujiya Bldg. 1-3-2, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2013-020758 05.02.2013 JP
発明の名称: (EN) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
要約: front page image
(EN)The present invention provides an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a compound represented by general formula (1) or (2) and that generates an acid when exposed to active light or radiation, and (B) a resin comprising repeating units (b) having groups that decompose with exposure to an acid and produce alcoholic hydroxyl groups. (Symbols in the formulae represent the meaning stated in the claims.)
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement qui contient : (A) un composé représenté par la formule générale (1) ou (2) et générant un acide lorsqu'il est exposé à une lumière active ou à un rayonnement ; et (B) une résine comprenant des unités structurales (b) qui possèdent des groupes se décomposant en cas d'exposition à un acide et produisant des groupes hydroxyle alcooliques. (Les symboles dans les formules ont la signification indiquée dans les revendications.)
(JA) (A)下記一般式(1)または(2)で表される活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位(b)を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中の記号は、特許請求の範囲に記載の意味を表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)