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1. (WO2014119735) 処理装置、噴射処理方法および電極材料の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119735    国際出願番号:    PCT/JP2014/052280
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 31.01.2014
IPC:
B05B 15/12 (2006.01), C23C 24/04 (2006.01), H01M 4/1395 (2010.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
発明者: SEKIMOTO, Tatsuya; (JP).
IIZAKA, Junichi; (JP)
代理人: NAGAI, Fuyuki; c/o NAGAI & ASSOCIATES, Fukoku Seimei Building, 2-2-2, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP)
優先権情報:
2013-017280 31.01.2013 JP
発明の名称: (EN) PROCESSING APPARATUS, SPRAY PROCESSING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE MATERIAL
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PULVÉRISATION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MATÉRIAU D'ÉLECTRODE
(JA) 処理装置、噴射処理方法および電極材料の製造方法
要約: front page image
(EN)The present invention is a processing apparatus provided with: a processing unit (10) that sprays a gas inside a main chamber (11); sealing chambers (13, 14) that link with both the inside and the outside of the main chamber (11); an evacuating unit (15) for evacuating the interior of the main chamber (11) and/or the sealing chambers (13, 14); and a control unit (17) that controls a first pressure differential between the pressure inside the sealing chambers (13, 14) and a first reference pressure. The evacuating unit (15) has a first evacuating system (150) that evacuates the inside of the sealing chambers (13, 14). The control unit (17) causes the operating mode to transition according to increases in the amount of gas spray inside the main chamber (11) from a first mode to a second mode, said first mode being a mode of operating the first evacuating system (150) by feedback control based on the first pressure differential, said second mode being a mode of operating the first evacuating system (150) by control different from the feedback control based on the first pressure differential. With this constitution, outflow of gas from the main chamber and inflow of outside air into the main chamber can be suppressed even if large amounts of gas are sprayed in a short period of time by the processing unit.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement, comprenant : une unité de traitement (10) qui pulvérise un gaz à l'intérieur d'une chambre principale (11) ; des chambres d'étanchéité (13, 14) reliées à l'espace intérieur et à l'espace extérieur de la chambre principale (11) ; et une unité d'évacuation (15) pour évacuer l'intérieur de la chambre principale (11) et/ou les chambres des chambres d'étanchéité (13, 14) ; et une unité de commande (17) qui commande un premier différentiel de pression entre la pression à l'intérieur des chambres d'étanchéité (13, 14) et une première pression de consigne. L'unité d'évacuation (15) présente un premier système d'évacuation (150) qui évacue l'intérieur des chambres d'étanchéité (13, 14). L'unité de commande (17) commande la transition du mode de fonctionnement d'un premier mode à un second mode en fonction de l'augmentation de la quantité de gaz pulvérisé à l'intérieur de la chambre principale (11). Ledit premier mode est un mode de commande du premier système d'évacuation (150) par commande à rétroaction basée sur le premier différentiel de pression, ledit second mode étant un mode de commande du premier système d'évacuation (150) par commande autre que la commande à rétroaction basée sur le premier différentiel de pression. De cette manière, l'écoulement de gaz hors de la chambre principale et l'introduction d'air dans la chambre principale peuvent être supprimés même si de grandes quantités de gaz sont pulvérisées sur une courte période par l'unité de traitement.
(JA) 本発明は、主室(11)の内部にガスを噴射する処理部(10)と、主室(11)の内部および外部の双方に連通するシール室(13,14)と、主室(11)および/またはシール室(13,14)の内部を排気する排気部(15)と、シール室(13,14)の内部の圧力と第1の基準圧力との第1の差圧を制御する制御部(17)とを備える処理装置において、排気部(15)は、シール室(13,14)の内部を排気する第1排気系統(150)を有し、制御部(17)は、主室(11)の内部に噴射されるガスの量の増加に応じて動作モードを、第1の差圧に基づくフィードバック制御をして第1排気系統(150)を動作させる第1モードから、第1の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして第1排気系統(150)を動作させる第2モードに移行させるものである。 当該構成により、処理部により短時間に大量のガスが噴射されても、主室からのガスの流出及び主室内への外気の流入を抑制することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)