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1. (WO2014119683) 赤外線反射フィルムの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119683    国際出願番号:    PCT/JP2014/052159
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 30.01.2014
IPC:
G02B 5/26 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B32B 15/08 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
出願人: NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP)
発明者: WATANABE, Masahiko; (JP).
OHMORI, Yutaka; (JP)
代理人: SHINTAKU, Masato; IZANAGI IP LAW FIRM, Toa Bldg., 5-7, Minamihonmachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410054 (JP)
優先権情報:
2013-017533 31.01.2013 JP
2014-012215 27.01.2014 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING INFRARED RADIATION REFLECTING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM RÉFLÉCHISSANT LE RAYONNEMENT INFRAROUGE
(JA) 赤外線反射フィルムの製造方法
要約: front page image
(EN)This method for producing an infrared radiation reflecting film comprises, in order: a metal layer forming step in which a metal layer (25) is formed on a transparent film substrate (10); a metal oxide layer forming step in which a surface-side metal oxide layer (22) is formed by DC sputtering so as to be in direct contact with the metal layer (25); and a transparent protective layer forming step in which a transparent protective layer (30) is formed on the surface-side metal oxide layer (22). In the metal oxide layer forming step, a sputtering target used for DC sputtering contains zinc atoms and tin atoms, and is preferably formed by sintering at least one metal oxide among zinc oxide and tin oxide, and a metal powder. In the surface-side metal oxide forming step, an inert gas and an oxygen gas are introduced inside a sputtering film-forming chamber. The oxygen concentration in the gas introduced to the sputtering film-forming chamber is preferably not more than 8 vol%.
(FR)Ce procédé de fabrication d'un film réfléchissant le rayonnement infrarouge comprend, dans l'ordre : une étape de formation de couche métallique dans laquelle une couche de métal (25) est formée sur un substrat de film transparent (10); une étape de formation de couche d'oxyde de métal dans laquelle une couche d'oxyde de métal du côté surface (22) est formée par pulvérisation cathodique CC de manière à assurer le contact direct avec la couche métallique (25) ; et une étape de formation de couche de protection transparente dans laquelle une couche de protection transparente (30) est formée sur la surface côté couche d'oxyde de métal (22). A l'étape de formation de couche d'oxyde de métal, une cible de pulvérisation utilisée pour la pulvérisation CC contient des atomes d'étain et d'atomes de zinc, et est de préférence formée par le frittage d'au moins un oxyde de métal, soit de zinc soit d'étain, et d'une poudre métallique. A l'étape de formation d'un oxyde de métal côté surface, un gaz inerte et de l'oxygène gazeux sont introduits à l'intérieur d'une chambre de formation de film par pulvérisation. La concentration en oxygène dans le gaz introduit dans la chambre de formation de film par pulvérisation est de préférence inférieure ou égale à 8 % en volume.
(JA) 本発明の赤外線反射フィルムの製造方法は、透明フィルム基材(10)上に、金属層(25)が製膜される金属層形成工程;金属層(25)上に直接接するように、表面側金属酸化物層(22)が直流スパッタにより製膜される金属酸化物層形成工程;および表面側金属酸化物層(22)上に透明保護層(30)が形成される透明保護層形成工程、をこの順に有する。金属酸化物層形成工程において、直流スパッタ法に用いられるスパッタターゲットは、亜鉛原子および錫原子を含有し、酸化亜鉛と酸化錫のうち少なくとも一方の金属酸化物と金属粉末とが焼結されたターゲットであることが好ましい。表面側金属酸化物形成工程においては、スパッタ製膜室内に、不活性ガスおよび酸素ガスが導入される。スパッタ製膜室に導入されるガス中の酸素濃度は、8体積%以下であることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)