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1. WO2014119668 - 赤外線反射フィルムの製造方法

公開番号 WO/2014/119668
公開日 07.08.2014
国際出願番号 PCT/JP2014/052132
国際出願日 30.01.2014
IPC
C23C 14/34 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B32B 38/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
38積層過程に伴う付随的操作
C23C 14/06 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
C23C 14/08 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
G02B 5/26 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
26反射フィルター
CPC
B29L 2011/0083
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0083Reflectors
B32B 2037/243
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
37Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
14characterised by the properties of the layers
24with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
243Coating
B32B 2038/0092
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0052Other operations not otherwise provided for
0092Metallizing
B32B 2309/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
02Temperature
B32B 2309/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
04Time
B32B 2309/105
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
08Dimensions, e.g. volume
10linear, e.g. length, distance, width
105Thickness
出願人
  • 日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 渡邊 聖彦 WATANABE, Masahiko
  • 大森 裕 OHMORI, Yutaka
代理人
  • 新宅 将人 SHINTAKU, Masato
優先権情報
2013-01663331.01.2013JP
2014-00887421.01.2014JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PRODUCTION METHOD FOR INFRARED RADIATION REFLECTING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM RÉFLÉCHISSANT LE RAYONNEMENT INFRAROUGE
(JA) 赤外線反射フィルムの製造方法
要約
(EN)
This infrared radiation reflecting film (100) is provided with, in order, an infrared radiation reflecting layer (20) having a metal layer (25) and metal oxide layers (21, 22), and a transparent protective layer (30) on a transparent film substrate (10). In this production method, the metal oxide layers are formed by DC sputtering using a winding sputtering apparatus. The sputtering target used in DC sputtering contains zinc atoms and tin atoms. The sputtering target is preferably obtained by sintering a metal powder, and at least one metal oxide among zinc oxide and tin oxide.
(FR)
Le film réfléchissant le rayonnement infrarouge (100) selon l'invention comprend, dans l'ordre, une couche (20) réfléchissant le rayonnement infrarouge comportant une couche de métal (25) et des couches d'oxyde métallique (21, 22) ainsi qu'une couche de protection transparente (30) située sur un substrat (10) de film transparent. Dans ce procédé de fabrication, les couches d'oxyde de métal sont formées par pulvérisation cathodique CC à l'aide d'un appareil de pulvérisation d'enroulement. La cible de pulvérisation cathodique utilisée dans la pulvérisation CC contient des atomes de zinc et des atomes d'étain. La cible de pulvérisation est de préférence obtenue par frittage d'une poudre métallique, et d'au moins un oxyde métallique choisi entre un oxyde de zinc et de l'oxyde d'étain.
(JA)
 赤外線反射フィルム(100)は、透明フィルム基材(10)上に、金属層(25)および金属酸化物層(21,22)を有する赤外線反射層(20)と、透明保護層(30)とをこの順に備える。本発明の製造方法では、金属酸化物層が、巻取式スパッタ装置を用いる直流スパッタ法により製膜される。直流スパッタ法に用いられるスパッタターゲットは、亜鉛原子および錫原子を含有する。スパッタターゲットは、酸化亜鉛と酸化錫のうち少なくとも一方の金属酸化物と、金属粉末とが焼結されたターゲットであることが好ましい。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報