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1. (WO2014119662) ガスバリアフィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119662    国際出願番号:    PCT/JP2014/052096
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 30.01.2014
IPC:
B32B 9/00 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01)
出願人: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP)
発明者: SUZUKI, Masashi; (JP).
KUDOU, Takuma; (JP).
SHIBATA, Akihiko; (JP).
OKANO, Ai; (JP)
代理人: YAMASHITA, Akihiko; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 3rd Floor, Oak Building Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2013-017598 31.01.2013 JP
発明の名称: (EN) GAS BARRIER FILM
(FR) FILM BARRIÈRE AUX GAZ
(JA) ガスバリアフィルム
要約: front page image
(EN)The main purpose of the present invention is to provide a gas barrier film which is able to have high light transmittance, while maintaining high gas barrier properties with respect to water vapor and the like. The present invention achieves the above-described purpose by providing a gas barrier film which is characterized by comprising: a base which is formed of a transparent resin; an undercoat layer which is formed on the base from a fluorene-based acrylate that has a fluorene group and an oxyalkylene group having no hydroxy group in each constituent unit; an inorganic vapor-deposited layer which is formed on the undercoat layer from silicon oxide SiOx (1.7 ≤ x ≤ 2.2); and an overcoat layer which is formed on the inorganic vapor-deposited layer from a metal alkoxide and a water-soluble polymer, and which has a film thickness within the range of 250-500 nm.
(FR)La présente invention est concerne un film barrière aux gaz qui peut avoir une transmittance de lumière élevée, tout en conservant des propriétés de barrière aux gaz élevées par rapport à la vapeur d'eau et similaire(s). La présente invention concerne un film barrière aux gaz qui est caractérisé en ce qu'il comprend : une base qui se compose d'une résine transparente; une sous-couche qui est formée sur la base à partir d'un acrylate à base de fluorène qui possède un groupe fluorène et un groupe oxyalkylène ne possédant aucun groupe hydroxy dans chaque motif constituant; une couche inorganique déposée en phase vapeur qui est formée sur la sous-couche à partir d'oxyde de silicium SiOx (1,7 ≤ x ≤ 2,2); et une couche de recouvrement qui est formée sur la couche inorganique déposée en phase vapeur à partir d'un alcoxyde de métal et d'un polymère hydrosoluble, et qui présente une épaisseur de film dans la plage de 250 à 500 nm.
(JA) 本発明は、水蒸気等に対して高いガスバリア性を維持しつつ、高い光透過性を有することが可能なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。本発明は、透明樹脂で形成された基材と、上記基材上に、ヒドロキシ基を有さないオキシアルキレン基、およびフルオレン基を構成単位中に有するフルオレン系アクリレートにより形成されたアンダーコート層と、上記アンダーコート層上に、酸化珪素SiO(1.7≦x≦2.2)で形成された無機蒸着層と、上記無機蒸着層上に、金属アルコキシドおよび水溶性高分子により形成され、膜厚が250nm~500nmの範囲内であるオーバーコート層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)