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1. (WO2014119506) 反射防止フィルムおよびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119506    国際出願番号:    PCT/JP2014/051656
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 27.01.2014
IPC:
G02B 1/11 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
出願人: NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP)
発明者: KISHI, Atsushi; (JP).
UENO, Tomonori; (JP).
KURAMOTO, Hiroki; (JP)
代理人: MOMII, Takafumi; 7th Floor, Aqua Dojima East, 1-4-4, Dojimahama, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004 (JP)
優先権情報:
2013-014457 29.01.2013 JP
発明の名称: (EN) ANTI-REFLECTION FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) FILM ANTIREFLET ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 反射防止フィルムおよびその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is an anti-reflection film that can be produced in a highly-productive manner and at low cost, has excellent reflection properties (i.e., low reflectivity) over a wide spectrum, and has excellent reflection hues that are close to neutral. This anti-reflection film comprises a substrate, and, in order from the substrate side, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. The refractive index of the substrate (nS), the refractive index of the medium refractive index layer (nM) and the refractive index of the high refractive index layer (nH) satisfy expression (1). The refractive index of the substrate (nS), the refractive index of the medium refractive index layer (nM) and the refractive index of the high refractive index layer (nH) have the relationship nH > nM > nS.
(FR)La présente invention concerne un film antireflet qui peut être produit de manière hautement productive et à faible coût, présente d'excellentes propriétés de réflexion (c'est-à-dire, une faible réflectivité) sur un large spectre, et présente d'excellentes teintes de réflexion qui sont proches du neutre. Ledit film antireflet comprend un substrat, et, dans l'ordre à partir du côté substrat, une couche à indice de réfraction moyen, une couche à indice de réfraction élevé, et une couche à faible indice de réfraction. L'indice de réfraction du substrat (nS), l'indice de réfraction de la couche à indice de réfraction moyen (nM) et l'indice de réfraction de la couche à indice de réfraction élevé (nH) satisfont à l'expression (1). L'indice de réfraction du substrat (nS), l'indice de réfraction de la couche à indice de réfraction moyen (nM) et l'indice de réfraction de la couche à indice de réfraction élevé (nH) ont la relation suivante : nH > nM > nS.
(JA) 高生産性かつ低コストで製造可能であり、広帯域において優れた反射特性(低反射性)を有し、かつニュートラルに近い優れた反射色相を有する反射防止フィルムが提供される。 本発明の反射防止フィルムは、基材と、基材側から順に、中屈折率層と、高屈折率層と、低屈折率層とを有する。基材の屈折率n、中屈折率層の屈折率nおよび高屈折率層の屈折率nは下記式(1)を満足する。 ここで、基材の屈折率n、中屈折率層の屈折率nおよび高屈折率層の屈折率nは、n>n>nの関係を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)