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1. (WO2014119483) 異物を発塵させる装置および発塵要因分析装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119483    国際出願番号:    PCT/JP2014/051522
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 24.01.2014
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: ANDO Hiroyuki; (JP).
ASAGA Yuta; (JP)
代理人: POLAIRE I.P.C.; 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
優先権情報:
2013-015938 30.01.2013 JP
発明の名称: (EN) DEVICE FOR DUST EMITTING OF FOREIGN MATTER AND DUST EMISSION CAUSE ANALYSIS DEVICE
(FR) DISPOSITIF POUR L'ÉMISSION DE POUSSIÈRE DE MATIÈRE ÉTRANGÈRE ET DISPOSITIF D'ANALYSE DE CAUSES D'ÉMISSION DE POUSSIÈRE
(JA) 異物を発塵させる装置および発塵要因分析装置
要約: front page image
(EN)To identify a mechanism part which emits dust, it is necessary to position a wafer near an operation mechanism part, operate the mechanism part, and cause foreign matter to adhere to the wafer surface. A method which a service engineer currently carries out comprises manually positioning the wafer at a specific location within a device, and manually operating the mechanism part. The current procedure being a manual task, efficiency in identifying the cause of dust emission is poor. In the present invention, a structure is disposed which deliberately instigates dust emission and causes foreign matter to adhere to a wafer by repeating an operation of each specific site in the device. As an example, a device comprises a control device, a sample chamber wherein a sample is processed, and a mechanism which conveys the sample in and out of the sample chamber. The mechanism comprises a plurality of sites. The control device has a script. By the control device executing the script, a specific site among a plurality of sites of the mechanism is repeatedly operated.
(FR)Pour identifier une partie de mécanisme qui émet de la poussière, il est nécessaire de positionner une plaquette près d'une partie de mécanisme de fonctionnement, d'actionner la partie de mécanisme, et de faire adhérer la matière étrangère à la surface de la plaquette. Un procédé que réalise actuellement un ingénieur d'entretien consiste à positionner manuellement la plaquette en un emplacement spécifique dans un dispositif et de faire fonctionner manuellement la partie de mécanisme. La procédure actuelle étant une tâche manuelle, l'efficacité d'identification de la cause de l'émission de poussière est mauvaise. Dans la présente invention une structure est disposée, laquelle étudie délibérément l'émission de poussière et fait adhérer la matière étrangère à une plaquette en répétant un fonctionnement de chaque site spécifique dans le dispositif. Par exemple, un dispositif comprend un dispositif de commande, une chambre d'échantillon dans laquelle un échantillon est traité et un mécanisme qui transporte l'échantillon dans et hors de la chambre d'échantillon. Le mécanisme comprend une pluralité de sites. Le dispositif de commande a un déroulement. Lorsque le dispositif de commande exécute le déroulement, un site spécifique parmi une pluralité de sites du mécanisme est actionné répétitivement.
(JA) 発塵する機構部を特定するためには、動作機構部の近くにウェハを配置して機構部を動作させ、ウェハ面に異物を付着させる必要がある。現状サービスエンジニアが行う方法は、ウェハを装置内の特定位置に手動で配置した後、手動で機構部を動作させる。現状のやり方は、手動での作業であるため、発塵の原因究明までの効率が悪い。装置における各特定部位の動作を繰返すことで故意に発塵を促してウェハに異物を付着させる仕組みを設ける。例えば、装置は、制御装置と試料を処理する試料室と試料室に試料を搬入及び搬出する機構とを具備し、機構は複数の部位を有し、制御装置はスクリプトを有しており、制御装置がスクリトを実行することにより機構の複数の部位うちの特定の部位が繰返し動作するようにされる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)