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1. (WO2014119433) 薄膜形成装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119433    国際出願番号:    PCT/JP2014/051168
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 22.01.2014
B05B 5/08 (2006.01), B05B 15/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: TORAY ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; Nihonbashi Muromachi Bldg., 3-16, Nihonbashi Hongokucho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030021 (JP)
発明者: YAMAMOTO, Kiyohito; (JP).
IZUMIDA, Shinya; (JP).
IWADE, Takashi; (JP).
HONDA, Kenshin; (JP)
2013-017995 01.02.2013 JP
(JA) 薄膜形成装置
要約: front page image
(EN)Provided is a thin film forming device (electrospray device (100)) that can improve transferability of an opening pattern in a mask (3). Specifically, this thin-film forming device (electrospray device (100)) is provided with a nozzle (1) that sprays in a state in which a voltage is applied to a solution material, and a mask (3) which is disposed in proximity to a substrate (4) between the nozzle (1) and the substrate (4) and includes an opening part (3a) that has a prescribed opening pattern. The present invention is constituted such that the solution material sprayed by the nozzle (1) is deposited as a thin film on the substrate (4) and such that the nozzle (1) side portion (3b) of the opening part (3a) of the mask (3) has an opening surface area larger than the substrate (4) side portion of the opening part (3a) of the mask (3).
(FR)Cette invention concerne un dispositif de formation de couches minces (dispositif d'électronébulisation (100)) permettant d'améliorer l'aptitude au transfert d'un motif d'ouverture dans un masque (3). Plus spécifiquement, ledit dispositif de formation de couches minces (dispositif d'électronébulisation (100)) comprend une buse (1) qui pulvérise un matériau de solution auquel est appliquée une tension, et un masque (3) disposé à proximité d'un substrat (4) entre la buse (1) et le substrat (4) et comprenant une partie d'ouverture (3a) présentant un motif d'ouverture prédéterminé. Le dispositif de l'invention est constitué de telle manière que le matériau de solution pulvérisé par la buse (1) est déposé en couche mince sur le substrat (4) et la partie (3b) côté buse (1) de la partie d'ouverture (3a) du masque (3) présente une aire d'ouverture supérieure à celle de la partie côté substrat (4) de la partie d'ouverture (3a) du masque (3).
(JA) マスク(3)の開口パターンの転写性を向上させることが可能な薄膜形成装置(エレクトロスプレー装置(100))を提供する。具体的には、この薄膜形成装置(エレクトロスプレー装置(100))は、溶液材料に電圧を印加した状態で噴霧するノズル(1)と、ノズル(1)と基板(4)との間の基板(4)の近傍に配置され、所定の開口パターンを有する開口部(3a)を含むマスク(3)とを備え、ノズル(1)から噴霧された溶液材料は、基板(4)に薄膜として堆積され、マスク(3)の開口部(3a)のノズル(1)側の部分(3b)は、マスク(3)の開口部(3a)の基板(4)側の部分よりも開口面積が大きくなるように構成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)