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1. (WO2014119367) 研磨パッド
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/119367    国際出願番号:    PCT/JP2014/050577
国際公開日: 07.08.2014 国際出願日: 15.01.2014
IPC:
B24B 37/24 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP)
発明者: SEYANAGI,Hiroshi; (JP)
代理人: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
優先権情報:
2013-014623 29.01.2013 JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッド
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: a polishing pad which is not susceptible to deterioration due to moisture absorption in a moisture-absorbing environment, while having excellent polishing characteristics, service life characteristics and high polishing rate; and a method for producing the polishing pad. A polishing pad of the present invention has a polishing layer that is formed of a polyurethane foam having fine cells. The polyurethane foam is a reaction cured body of a chain extender and an isocyanate-terminated prepolymer which is obtained by reacting a prepolymer starting material composition that contains an isocyanate component, a high molecular weight polyol and an aliphatic diol. The high molecular weight polyol contains a polyalkylene glycol A that has a peak of the molecular weight distribution within the range of 200-300 and a polyalkylene glycol B that has a peak of the molecular weight distribution within the range of 800-1,200.
(FR)L'invention concerne : un tampon de polissage non sensible à la détérioration du fait de l'absorption d'humidité dans un environnement absorbant l'humidité, tout en présentant d'excellentes caractéristiques de polissage, d'excellentes caractéristiques de durée de vie utile et un taux de polissage élevé; et un procédé pour produire le tampon de polissage. Un tampon de polissage selon la présente invention présente une couche de polissage formée d'une mousse de polyuréthane à cellules fines. La mousse de polyuréthane est un corps, durci par réaction, d'un extendeur de chaîne et d'un prépolymère terminé par un isocyanate, obtenu en faisant réagir une composition de matériau de départ de prépolymère contenant un composant isocyanate, un polyol à masse moléculaire élevée et un diol aliphatique. Le polyol à masse moléculaire élevée contient un polyalcylène glycol A ayant un pic de distribution de masse moléculaire dans la plage comprise entre 200 et 300 et un polyalcylène glycol B ayant un pic de distribution de masse moléculaire dans la plage comprise entre 800 et 1 200.
(JA)本発明は、吸湿環境下において吸水劣化し難く、研磨特性と寿命特性に優れており、かつ研磨速度の大きい研磨パッド及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明の研磨パッドは、微細気泡を有するポリウレタン発泡体からなる研磨層を有しており、前記ポリウレタン発泡体は、イソシアネート成分、高分子量ポリオール、及び脂肪族ジオールを含むプレポリマー原料組成物を反応させて得られるイソシアネート末端プレポリマーと、鎖延長剤との反応硬化体であり、前記高分子量ポリオールは、200~300の範囲に分子量分布のピークを有するポリアルキレングリコールA、及び800~1200の範囲に分子量分布のピークを有するポリアルキレングリコールBを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)