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1. (WO2014061710) レジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/061710    国際出願番号:    PCT/JP2013/078104
国際公開日: 24.04.2014 国際出願日: 16.10.2013
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), C07C 39/17 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
発明者: TAKASUKA, Masaaki; (JP).
ECHIGO, Masatoshi; (JP).
OKADA, Yu; (JP).
OCHIAI, Yumi; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES, 23rd Floor, Roppongi Hills Mori Tower, 6-10-1, Roppongi, Minato-ku, Tokyo 1066123 (JP)
優先権情報:
2012-229482 17.10.2012 JP
発明の名称: (EN) RESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE
(JA) レジスト組成物
要約: front page image
(EN)A resist composition according to the present invention comprises a resist base material and a solvent, wherein the resist base material contains a specific stereoisomer and the specific stereoisomer makes up 50 to 100 mass% of the resist base material.
(FR)L'invention concerne une composition de réserve qui comprend une matériau de base de réserve et un solvant, le matériau de base de réserve contenant un stéréoisomère spécifique, ce dernier représentant 50 à 100 % en poids du matériau de base de réserve.
(JA) 本発明のレジスト組成物は、レジスト基材と溶媒とを含むレジスト組成物であって、該レジスト基材が特定の立体異性体を含有し、且つ該レジスト基材に占める前記特定の立体異性体の割合が50~100質量%である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)