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1. (WO2014061617) 改質方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/061617    国際出願番号:    PCT/JP2013/077858
国際公開日: 24.04.2014 国際出願日: 11.10.2013
IPC:
B32B 9/00 (2006.01), B05D 3/04 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C23C 14/58 (2006.01)
出願人: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
発明者: HIROSE, Tatsuya; (JP).
ARITA, Hiroaki; (JP).
KAWAMURA, Tomonori; (JP)
代理人: HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
優先権情報:
2012-231497 19.10.2012 JP
発明の名称: (EN) MODIFICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MODIFICATION
(JA) 改質方法
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a high-productivity, fast modification method that makes it possible to modify a laminate all the way to the interior thereof, said laminate being provided with one or more film layers selected from among oxide films, nitride films, oxynitride films, and oxycarbide films, containing at least one element selected from among silicon, aluminum, and titanium. The present invention is a modification method for modifying at least part of a laminate provided with the following: a substrate; and, formed on top of said substrate, one or more film layers selected from among oxide films, nitride films, oxynitride films, and oxycarbide films, containing at least one element selected from among silicon, aluminum, and titanium. Said modification method is characterized by including a modification step in which the aforementioned one or more film layers are exposed to vacuum ultraviolet light so as to modify at least part of the laminate. The modification method is further characterized in that said vacuum ultraviolet light is generated via a plasma formed from a gas containing at least one compound selected from among CO, CO2, and CH4.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé de modification rapide et à haute productivité qui permet de modifier un stratifié jusqu'à l'intérieur de ce dernier, ledit stratifié comprenant une ou plusieurs couches de film sélectionnées parmi des films d'oxyde, des films de nitrure, des films d'oxynitrure et des films d'oxycarbure qui contiennent au moins un élément sélectionné parmi le silicium, l'aluminium et le titane. La présente invention porte sur un procédé de modification permettant de modifier au moins une partie d'un stratifié comprenant les éléments suivants : un substrat ; et, formées sur la partie supérieure dudit substrat, une ou plusieurs couches de film sélectionnées parmi des films d'oxyde, des films de nitrure, des films d'oxynitrure et des films d'oxycarbure qui contiennent au moins un élément sélectionné parmi le silicium, l'aluminium et le titane. Ledit procédé de modification est caractérisé par le fait qu'il comprend une étape de modification au cours de laquelle la ou les couches de film susmentionnées sont exposées à une lumière ultraviolette sous vide de sorte à modifier au moins une partie du stratifié. Le procédé de modification est en outre caractérisé en ce que ladite lumière ultraviolette sous vide est produite par l'intermédiaire d'un plasma formé à partir d'un gaz qui contient au moins un composé sélectionné parmi l'oxyde de carbone (CO), le dioxyde de carbone (CO2) et le méthane (CH4).
(JA) 本発明は、Si、Al及びTiの少なくとも1種を含む酸化膜、窒化膜、窒酸化膜及び炭酸化膜の少なくとも1層の膜を備える積層体を内部まで改質することができ、生産性が高く、処理時間が短い改質方法を提供することを目的とする。 本発明は、基材と、前記基材上に形成された、Si、Al及びTiの少なくとも1種を含む酸化膜、窒化膜、窒酸化膜及び炭酸化膜の少なくとも1層の膜とを備える積層体の少なくとも一部を改質する改質方法であって、前記少なくとも1層の膜を真空紫外光に晒すことにより、前記積層体の少なくとも一部を改質する改質工程を含み、前記真空紫外光を、CO、CO及びCHの少なくとも1種を含むガスで形成されたプラズマにより発生させることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)