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1. (WO2014061271) スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜及びそれらの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/061271    国際出願番号:    PCT/JP2013/006146
国際公開日: 24.04.2014 国際出願日: 16.10.2013
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C04B 35/00 (2006.01), C04B 35/453 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), H01L 21/363 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
出願人: IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP)
発明者: EBATA, Kazuaki; (JP).
TAJIMA, Nozomi; (JP)
代理人: WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
優先権情報:
2012-230512 18.10.2012 JP
2013-084274 12.04.2013 JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET, OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM, AND METHODS FOR PRODUCING THESE
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, FILM MINCE SEMI-CONDUCTEUR À OXYDE ET PROCÉDÉS PERMETTANT DE PRODUIRE CES DERNIERS
(JA) スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜及びそれらの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a sputtering target which consists of an oxide containing an indium element (In), tin element (Sn), zinc element (Zn) and aluminum element (Al) and which contains a homologous structure compound represented by In2O3(ZnO)n (n is 2-20) and a spinel structure compound represented by Zn2SnO4.
(FR)La présente invention se rapporte à une cible de pulvérisation cathodique qui se compose d'un oxyde contenant un élément indium (In), un élément étain (Sn), un élément zinc (Zn) et un élément aluminium (Al) et qui contient un composé à structure homologue représenté par In2O3(ZnO)n (n variant entre 2 et 20) et un composé à structure de spinelle représenté par Zn2SnO4.
(JA)インジウム元素(In)、スズ元素(Sn)、亜鉛元素(Zn)及びアルミニウム元素(Al)を含有する酸化物からなり、In(ZnO)(nは2~20である)で表わされるホモロガス構造化合物及びZnSnOで表されるスピネル構造化合物を含むスパッタリングターゲット。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)