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1. (WO2014061062) スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/061062    国際出願番号:    PCT/JP2012/006666
国際公開日: 24.04.2014 国際出願日: 18.10.2012
IPC:
C07C 381/12 (2006.01), C08G 59/68 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
出願人: SAN-APRO LTD. [JP/JP]; 11, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, kyoto-shi, Kyoto 6050995 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IKEDA, Takuya [JP/JP]; (JP) (US only).
TAKASHIMA, Yusaku [JP/JP]; (JP) (US only).
SUZUKI, Issei [JP/JP]; (JP) (US only)
発明者: IKEDA, Takuya; (JP).
TAKASHIMA, Yusaku; (JP).
SUZUKI, Issei; (JP)
代理人: HAYASHI, Hiroshi; HAYASHI PATENT OFFICE, R402, VOICE21 Bldg., 342-1 Enpukuji-cho, Muromachi-Oike-Sagaru, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048175 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) SULFONIUM SALT, PHOTOACID GENERATOR, CURABLE COMPOSITION, AND RESIST COMPOSITION
(FR) SEL DE SULFONIUM, GÉNÉRATEUR PHOTOACIDE, COMPOSITION POLYMÉRISABLE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
要約: front page image
(EN)The present invention provides: a novel sulfonium salt having high i-ray photosensitivity; and a novel sulfonium-salt-containing photoacid generator, etc. having high i-ray photosensitivity, strong compatibility with cationically polymerizable compounds such as epoxy compounds, and exceptional storage stability as a formulation. The present invention is a sulfonium salt expressed by general formula (1) and a photoacid generator, etc. characterized in containing the sulfonium salt (R represents an alkyl or aryl group; R1 through R3 independently represent an alkyl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, hydroxyl(poly)alkyleneoxy group, cyano group, nitro group, or halogen atom; m1 through m3 each represent the number of groups R1 through R3; m1 represents an integer of 0 to 4; m2 and m3 represent integers of 0 to 5; and X- represents a monovalent polyatomic anion).
(FR)La présente invention concerne un sel de sulfonium inédit hautement photosensible au rayonnement ultraviolet (i-line) ; et un générateur photoacide inédit contenant un sel de sulfonium, etc., qui se révèle hautement photosensible au rayonnement ultraviolet (i-line), qui présente une très bonne compatibilité avec les composés cationiquement polymérisables, tels que les composés époxy, et une remarquable stabilité en stockage sous la forme d'une composition. La présente invention concerne, donc, un sel de sulfonium représenté par la formule générale (1) et un générateur photoacide, etc., caractérisé en ce qu'il contient ledit sel de sulfonium (R représente un groupe alkyle ou aryle ; R1, R2 et R3 représentent indépendamment un groupe alkyle, hydroxyle, alcoxy, aryle, aryloxy, hydroxyl(poly)alkylèneoxy, cyano, nitro, ou un atome d'halogène ; m1, m² et m3 représentent chacun le nombre de groupes R1, R² et R3 ; m1 représente un nombre entier de 0 à 4 ; m2 et m3 représentent des nombres entiers de 0 à 5 ; et X- représente un anion polyatomique monovalent).
(JA)i線に高い光感応性を有する新たなスルホニウム塩及びi線に高い光感応性を有し,かつエポキシ化合物等のカチオン重合性化合物への相溶性が高く,その配合物において貯蔵安定性の優れた,スルホニウム塩を含んでなる新たな光酸発生剤等を提供する。本発明は、下記一般式(1)で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩を含有することを特徴とする光酸発生剤等である。〔式(1)中のRはアルキル基またはアリール基を表し、R~Rは互いに独立して、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。m~mはそれぞれR~Rの個数を表し、mは0~4の整数、mおよびmは0~5の整数を表し、Xは一価の多原子アニオンを表す。〕
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)