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1. (WO2013125591) 評価装置、評価方法、およびデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2013/125591    International Application No.:    PCT/JP2013/054202
Publication Date: 2013/08/29 International Filing Date: 2013/02/20
IPC: H01L 21/027
G01B 11/00
G03F 7/20
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: FUKAZAWA, Kazuhiko
深澤 和彦
Title: 評価装置、評価方法、およびデバイス製造方法
Abstract:
 露光装置のベストフォーカス位置を短時間で求めることが可能な装置を提供する。 表面検査装置1は、露光により設けられたパターンを有するウェハの表面を照明する照明系20と、照明系20により照明されたパターンからの回折光による回折光パターンを撮像する撮像装置35と、撮像装置35により撮像された回折光パターンの画像信号に基づいて、露光装置101のフォーカスの許容範囲を求め、求めたフォーカスの許容範囲に基づいて、露光装置101のベストフォーカス位置を求める評価部43とを備えている。