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1. WO2013118615 - 反射結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法

公開番号 WO/2013/118615
公開日 15.08.2013
国際出願番号 PCT/JP2013/051961
国際出願日 30.01.2013
IPC
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
CPC
G02B 17/0657
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
02Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
06using mirrors only ; , i.e. having only one curved mirror
0647using more than three curved mirrors
0657off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
G02B 19/0023
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0004characterised by the optical means employed
0019having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
0023at least one surface having optical power
G02B 19/0095
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0033characterised by the use
0095for use with ultra-violet radiation
G03F 7/702
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors
G03F 7/70233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70233Optical aspects of catoptric systems
H01L 21/0274
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
0271comprising organic layers
0273characterised by the treatment of photoresist layers
0274Photolithographic processes
出願人
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 川辺 喜雄 KAWABE Yoshio
代理人
  • 山口 孝雄 YAMAGUCHI Takao
優先権情報
2012-02316706.02.2012JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) REFLECTIVE IMAGE-FORMING OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DE FORMATION D'UNE IMAGE RÉFLÉCHISSANTE, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 反射結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
要約
(EN)
When this reflective image-forming optical system is applied to, for instance, an exposure apparatus using EUV light, this system is capable of suppressing a footprint of the apparatus. The reflective image-forming optical system which forms, on a second surface, an image of a pattern disposed on a first surface illuminated with light emitted from an illuminating optical system is provided with a plurality of reflecting mirrors including a first reflecting mirror, which firstly reflects light that has been reflected by the first surface, and a second reflecting mirror, which secondly reflects the light that has been reflected by the first surface. When a region where the first surface is irradiated with the light emitted from the illuminating optical system is specified as a region to be irradiated, and a portion where the region to be irradiated is positioned on the first surface is on the side further toward the predetermined direction than optical axes of the reflecting mirrors, a reflection region of the first reflecting mirror and a reflection region of the second reflecting mirror are positioned on the side further toward the predetermined direction than the optical axes of the reflecting mirrors, and the first reflecting mirror and the second reflecting mirror are disposed to sandwich an optical path of the light emitted from the illuminating optical system.
(FR)
L'invention concerne un système optique de formation d'une image réfléchissante apte, lorsqu'il est appliqué, par exemple, sur un appareil d'exposition à une lumière EUV, à éliminer une empreinte de l'appareil. Le système optique de formation d'une image réfléchissante formant, sur une seconde surface, une image d'un motif disposé sur une première surface éclairée par une lumière émise par un système optique d'éclairage, est pourvu d'une pluralité de miroirs réfléchissants comportant un premier miroir réfléchissant lequel réfléchit tout d'abord la lumière ayant été réfléchie par la première surface, et un second miroir réfléchissant, lequel réfléchit ensuite la lumière réfléchie par la première surface. Lorsqu'une zone dans laquelle la première surface est exposée à de la lumière émise par le système optique d'éclairage est définie comme une zone destinée à être exposée au rayonnement, et qu'une partie dans laquelle la zone destinée à être exposée à un rayonnement est positionnée sur la première surface se situe sur le côté plus proche de la direction prédéterminée que les axes optiques des miroirs réfléchissants, une zone de réfléchissement du premier miroir réfléchissant et une zone de réfléchissement du second miroir réfléchissant sont positionnées sur le côté plus proche de la direction prédéterminée que les axes optiques des miroirs réfléchissants, et le premier miroir réfléchissant et le second miroir réfléchissant sont disposés pour prendre en sandwich un trajet optique de la lumière émise par le système optique d'éclairage.
(JA)
 例えばEUV光を用いる露光装置に適用されたときに、装置のフットプリントを小さく抑えることのできる反射結像光学系。照明光学系からの光で照明された第1面に配置されるパターンの像を第2面に結像する反射結像光学系は、第1面で反射された光を、第1番目に反射する第1反射鏡と、第2番目に反射する第2反射鏡とを含む複数の反射鏡を備えている。照明光学系からの光が第1面に照射する領域を被照射領域とし、第1面上において被照射領域が位置する部分を、複数の反射鏡の光軸よりも所定の方向側であるとするとき、第1反射鏡の反射領域および第2反射鏡の反射領域は、複数の反射鏡の光軸よりも所定の方向側に位置し、照明光学系からの光の光路を挟むように、第1反射鏡および第2反射鏡が配置される。
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