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1. (WO2013118578) 研磨パッド及び研磨装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/118578    国際出願番号:    PCT/JP2013/051337
国際公開日: 15.08.2013 国際出願日: 23.01.2013
IPC:
B24B 37/26 (2012.01), B24B 37/00 (2012.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
発明者: YAMAMOTO Kazuyoshi; (JP)
代理人: HAMADA Yuriko; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2012-027648 10.02.2012 JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD AND POLISHING APPARATUS
(FR) TAMPON DE POLISSAGE ET APPAREIL DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッド及び研磨装置
要約: front page image
(EN)The present invention relates to a polishing pad which comprises: a plurality of first grooves that are provided in parallel at a predetermined interval in a surface to be polished; a plurality of second grooves that are provided in the surface to be polished to intersect with the first grooves; and a plurality of holes comprising a polishing liquid supply hole and a polishing liquid suction hole that are provided in bottom surfaces of the first groove and the second groove.
(FR)La présente invention porte sur un tampon de polissage, lequel tampon comprend : une pluralité de premières rainures qui sont disposées en parallèle à un intervalle prédéterminé dans une surface à polir ; une pluralité de secondes rainures qui sont disposées dans la surface à polir de façon à croiser les premières rainures ; et une pluralité de trous comprenant un trou de fourniture de liquide de polissage et un trou d'aspiration de liquide de polissage qui sont situés dans des surfaces inférieures de la première rainure et de la seconde rainure.
(JA) 本発明は、研磨面に所定の間隔をもって平行に備えられた複数の第1の溝と、前記研磨面に備えられ、前記第1の溝に交差する複数の第2の溝と、前記第1の溝及び前記第2の溝の底面に備えられた研磨液供給孔及び研磨液吸引孔とからなる複数の孔と、を有する研磨パッドに関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)