処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2013118289 - パターン転写方法

公開番号 WO/2013/118289
公開日 15.08.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/053097
国際出願日 10.02.2012
IPC
G11B 7/26 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
26記録担体の製造に特に適した方法または装置
G11B 7/24 2013.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
G11B 7/254 2013.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
241材料の選定に特徴のある記録担体
252記録層以外の層
254保護トップコート層について
G11B 7/257 2013.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
241材料の選定に特徴のある記録担体
252記録層以外の層
257記録再生特性に関与する層について、例.記録層を保護している、光学干渉層、増感層または誘電体層
CPC
G11B 7/263
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
7Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation ; by modifying optical properties or the physical structure; , reproducing using an optical beam at lower power ; by sensing optical properties; Record carriers therefor
24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
263Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
出願人
  • パイオニア株式会社 Pioneer Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 田切 孝夫 TAGIRI, Takao [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 神野 智施 JINNO, Satoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 田切 孝夫 TAGIRI, Takao
  • 神野 智施 JINNO, Satoshi
代理人
  • 特許業務法人藤村合同特許事務所 FUJIMURA PATENT BUREAU, P.C.
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PATTERN TRANSFER METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE TRANSFERT DE MOTIF
(JA) パターン転写方法
要約
(EN)
This pattern transfer method for transferring a pattern of an uneven surface of a stamper to a transfer-receiving surface of a base material includes the steps of applying a first UV-curable resin having a first glass transition temperature to the uneven surface of the stamper, irradiating UV rays through a principal exposure surface of the applied film to cure the first UV-curable resin and form a transfer layer on the uneven surface, affixing together the transfer layer of the stamper and the transfer-receiving surface of the base material, an intermediate layer comprising a second UV-curable resin having a second glass transition temperature lower than the first glass transition temperature being interposed therebetween, and peeling the stamper from the transfer layer that is joined with the intermediate layer adjacent to the transfer-receiving layer.
(FR)
L'invention concerne un procédé de transfert de motif pour transférer un motif d'une surface inégale d'une matrice de pressage sur une surface de réception de transfert d'un matériau de base, ledit procédé comprenant les étapes consistant à appliquer une première résine durcissable par UV ayant une première température de transition vitreuse sur la surface inégale de la matrice de pressage, irradier des rayons UV à travers une surface d'exposition principale du film appliqué pour durcir la première résine durcissable par UV et former une couche de transfert sur la surface inégale, fixer ensemble la couche de transfert de la matrice de pressage et la surface de réception de transfert du matériau de base, une couche intermédiaire comprenant une seconde résine durcissable par UV ayant une seconde température de transition vitreuse inférieure à la première température de transition vitreuse et étant intercalée entre elles, et détacher la matrice de pressage de la couche de transfert qui est jointe à la couche intermédiaire adjacente à la couche de réception de transfert.
(JA)
 スタンパの凹凸面のパターンをベース材の被転写面に転写するパターン転写方法は、第1ガラス転移温度を有する第1紫外線硬化樹脂をスタンパの凹凸面上に塗布し、塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して第1紫外線硬化樹脂を硬化させて転写層を凹凸面上に形成し、第1ガラス転移温度よりも低い第2ガラス転移温度を有する第2紫外線硬化樹脂からなる中間層を介在させて、スタンパの転写層とベース材の被転写面とを貼り合わせ、被転写面に接した中間層と接合した転写層からスタンパを剥離するステップを含む。
他の公開
国際事務局に記録されている最新の書誌情報