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1. WO2013118201 - 有機無機複合薄膜

公開番号 WO/2013/118201
公開日 15.08.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/004447
国際出願日 10.07.2012
IPC
C08J 7/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
7高分子物質から製造された成形体の処理または被覆
C08J 7/04 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
7高分子物質から製造された成形体の処理または被覆
04被覆
CPC
C08J 2483/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2483Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
C08J 7/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
7Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
12Chemical modification
16with polymerisable compounds
18using wave energy or particle radiation
出願人
  • 日本曹達株式会社 Nippon Soda Co., Ltd. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 熊澤 和久 KUMAZAWA, Kazuhisa [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 芝田 大幹 SHIBATA, Hiromoto [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 木村 信夫 KIMURA, Nobuo [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 熊澤 和久 KUMAZAWA, Kazuhisa
  • 芝田 大幹 SHIBATA, Hiromoto
  • 木村 信夫 KIMURA, Nobuo
代理人
  • 廣田 雅紀 HIROTA, Masanori
優先権情報
2012-02502408.02.2012JP
2012-08654005.04.2012JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ORGANIC-INORGANIC COMPOSITE THIN FILM
(FR) COUCHE MINCE DE COMPOSITE ORGANIQUE-INORGANIQUE
(JA) 有機無機複合薄膜
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to make the surface of a film, which is made from a polysiloxane-type organic-inorganic complex and of which the surface has higher hardness than that in the inside thereof, further inorganic. An organic-inorganic composite thin film according to the present invention has a layer comprising (a) a condensation product of an organosilicon compound represented by formula (I): RnSiX4-n (wherein R's independently represent an organic group in which Si is bound to a carbon atom directly; X's independently represent a hydroxy group or a hydrolysable group; n represents 1 or 2; R's may be the same as or different from each other when n is 2; and X's may be the same as or different from each other when (4-n) is 2 or more) and (b) an organic polymeric compound, wherein a layer produced by condensing the condensation product of the organosilicon compound represented by formula (I) is formed on the surface of the film, the concentration of carbon atoms at the depth of 10 nm from the surface is smaller by 20% or more than the concentration of carbon atoms at the depth of 100 nm from the surface, and the O/Si elemental ratio at the depth of 2 nm from the surface of the film is 1.8 to 2.5.
(FR)
La présente invention a pour objet de rendre la surface d'une couche, qui est constituée d'un complexe organique-inorganique de type polysiloxane et dont la surface a une dureté supérieure à celle de son intérieur, davantage inorganique. La présente invention porte sur une couche mince de composite organique-inorganique comprenant une couche comprenant (a) un produit de condensation d'un composé organique du silicium représenté par la formule (I) : RnSiX4-n (dans laquelle formule les R représentent chacun indépendamment un groupe organique, Si étant lié à un atome de carbone directement ; les X représentent chacun indépendamment un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable ; n vaut 1 ou 2 ; les R peuvent être identiques les uns aux autres ou différents les uns des autres lorsque n vaut 2 ; et les X peuvent être identiques les uns aux autres ou différents les uns des autres lorsque (4-n) est supérieur ou égal à 2) et (b) un composé polymère organique, une couche produite par condensation du produit de condensation du composé organique du silicium représenté par la formule (I) étant formé sur la surface de la couche, la concentration en atomes de carbone à la profondeur de 10 nm à partir de la surface étant plus petite de 20 % ou plus que la concentration en atomes de carbone à la profondeur de 100 nm à partir de la surface et le rapport élémentaire O/Si à la profondeur de 2 nm à partir de la surface de la couche étant de 1,8 à 2,5.
(JA)
本発明は、表面が内部より高い硬度を有するポリシロキサン系の有機無機複合体からなる膜の表面を更に無機質化することを課題とする。 本発明の有機無機複合薄膜は、 a)式(I) RSiX4-n (I) (式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4-n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物、及び、 b)有機高分子化合物 を含有する層を有する有機無機複合薄膜であって、 該膜の表面に式(I)で表される有機ケイ素化合物の縮合物が濃縮した層が形成されており、表面から10nmの深さの炭素原子の濃度が、表面から100nmの深さの炭素原子の濃度より20%以上少なく、さらに、膜の表面から2nmの深さのO/Si元素比が1.8~2.5である。
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