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1. (WO2013115384) 磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/115384    国際出願番号:    PCT/JP2013/052400
国際公開日: 08.08.2013 国際出願日: 01.02.2013
IPC:
G11B 5/667 (2006.01), C22C 45/02 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), G11B 5/738 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
出願人: SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 3007, Aza-Ichimonji, Nakashima, Shikama-ku, Himeji-shi, Hyogo 6728677 (JP)
発明者: SAWADA Toshiyuki; (JP).
MATSUBARA Noriaki; (JP)
代理人: KATSUNUMA Hirohito; Kyowa Patent & Law Office, Nippon Life Marunouchi Building, Marunouchi 1-6-6, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2012-022096 03.02.2012 JP
発明の名称: (EN) ALLOY FOR SOFT MAGNETIC FILM LAYERS, WHICH HAS LOW SATURATION MAGNETIC FLUX DENSITY AND IS TO BE USED IN MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET MATERIAL
(FR) ALLIAGE POUR COUCHES DE FILM À AIMANTATION TEMPORAIRE PRÉSENTANT UNE FAIBLE DENSITÉ DE FLUX MAGNÉTIQUE DE SATURATION ET UTILISÉ DANS UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE, MATÉRIAU CIBLE DE PULVÉRISATION
(JA) 磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材
要約: front page image
(EN)Provided are: an alloy for soft magnetic film layers, which has low saturation magnetic flux density and is to be used in a magnetic recording medium; and a sputtering target material. This alloy contains one or more elements selected from the group consisting of Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Ni, Cu, Al, B, C, Si, P, Zn, Ga, Ge and Sn, with the balance made up of Co and Fe, while satisfying, in at%, the following formulae (1)-(3). (1) 0.50 ≤ Fe%/(Fe% + Co%) ≤ 0.90 (2) 5 ≤ TAM ≤ 25 (3) 15 ≤ TAM + TNM ≤ 25 In this connection, the above-mentioned TAM and TNM are respectively defined as TAM = Y% + Ti% + Zr% + Hf% + V% + Nb% + Ta% + B%/2 and TNM = Cr% + Mo% + W% + Mn% + Ni%/3 + Cu%/3 + Al% + C% + Si% + P% + Zn% + Ga% + Ge% + Sn%.
(FR)La présente invention concerne un alliage pour couches de film à aimantation temporaire présentant une faible densité de flux magnétique de saturation et utilisé dans un support d'enregistrement magnétique, et un matériau cible de pulvérisation. Ledit alliage comprend un ou plusieurs éléments choisis parmi l'yttrium (Y), le titane (Ti), le zirconium (Zr), le hafnium (Hf), le vanadium (V), le niobium (Nb), le tantale (Ta), le chrome (Cr), le molybdène (Mo), le tungstène (W), le manganèse (Mn), le nickel (Ni), le cuivre (Cu), l'aluminium (Al), le bore (B), le carbone (C), le silicium (Si), le phosphore (P), le zinc (Zn), le gallium (Ga), le germanium (Ge) et l'étain (Sn), le reste comprenant le cobalt (Co) et le fer (Fe), tout en satisfaisant, en % atomique, aux formules (1) à (3) suivantes : (1) 0.50 ≤ Fe %/ (Fe % + Co %) ≤ 0.90 (2) 5 ≤ TAM ≤ 25 (3) 15 ≤ TAM + TNM ≤ 25 À cet égard, TAM = Y % + Ti % + Zr % + Hf % + V % + Nb % + Ta % + B %/2 et TNM = Cr % + Mo % + W % + Mn % + Ni %/3 + Cu %/3 + Al % + C % + Si % + P % + Zn % + Ga % + Ge % + Sn %.
(JA) 磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材が提供される。この合金は、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Al、B、C、Si、P、Zn、Ga、Ge、Snからなる群から選択される1種以上、ならびに残部CoおよびFeを含んでなり、かつ、at%で、下記式(1)~(3): (1)0.50≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90 (2)5≦TAM≦25 (3)15≦TAM+TNM≦25 を満たし、 ただし、前記TAMおよびTNMがそれぞれ、 TAM=Y%+Ti%+Zr%+Hf%+V%+Nb%+Ta%+B%/2 TNM=Cr%+Mo%+W%+Mn%+Ni%/3+Cu%/3+Al%+C%+Si%+P%+Zn%+Ga%+Ge%+Sn% である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)