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1. (WO2013115353) 基板及び基板加工方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/115353    国際出願番号:    PCT/JP2013/052327
国際公開日: 08.08.2013 国際出願日: 01.02.2013
予備審査請求日:    12.06.2013    
IPC:
B23K 26/40 (2006.01), B23K 26/06 (2006.01), B23K 26/38 (2006.01), B28D 5/00 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: SHIN-ETSU POLYMER CO., LTD. [JP/JP]; 1-9, Kanda-Sudacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION SAITAMA UNIVERSITY [JP/JP]; 255, Shimo-Okubo, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 3388570 (JP)
発明者: MATSUO, Rika; (JP).
SUZUKI, Hideki; (JP).
KUNISHI, Yosuke; (JP).
IKENO, Junichi; (JP)
代理人: MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower, 2-8, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2012-020067 01.02.2012 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板及び基板加工方法
要約: front page image
(EN)A thin silicon substrate is provided for which a product rate is maintained. A monocrystalline substrate (10) having a modified layer (14) having periodic structures having a different crystal orientation to the crystal orientation of the substrate (10) formed therein, said periodic structures being connected.
(FR)L'invention concerne un substrat de silicium mince pour lequel un taux de produit est maintenu. L'invention concerne un substrat monocristallin (10) comprenant une couche modifiée (14) comprenant des structures périodiques présentant une orientation cristalline différente de l'orientation cristalline du substrat (10) formé à l'intérieur, lesdites structures périodiques étant raccordées.
(JA) 薄いシリコン基板を製品率を確保して提供する。単結晶の基板10であって、前記基板10は、その内部に当該基板10の結晶方位とは異なる結晶方位を有する周期的構造が形成された改質層14を有し、前記周期的構造は連結されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)