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1. (WO2013115030) マグネトロンスパッタリング用磁場発生装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/115030    国際出願番号:    PCT/JP2013/051277
国際公開日: 08.08.2013 国際出願日: 23.01.2013
IPC:
C23C 14/35 (2006.01)
出願人: HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058614 (JP)
発明者: KURIYAMA Yoshihiko; (JP)
代理人: TAKAISHI Kitsuma; Kagurazaka FN Bldg. 5F, 67, Kagurazaka 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1620825 (JP)
優先権情報:
2012-017342 30.01.2012 JP
発明の名称: (EN) MAGNETIC FIELD GENERATOR FOR MAGNETRON SPUTTERING
(FR) GÉNÉRATEUR DE CHAMP MAGNÉTIQUE POUR PULVÉRISATION CATHODIQUE MAGNÉTRON
(JA) マグネトロンスパッタリング用磁場発生装置
要約: front page image
(EN)A magnetic field generator which is used in magnetron sputtering and which includes at least one permanent magnet for adjusting a magnetic field, has a race-track shape comprising straight-line sections and corner sections. The magnetic field generator has, provided on a base thereof comprising a non-magnetic material, bar-shaped central-magnetic-pole members, peripheral-magnetic-pole members disposed so as to surround the central-magnetic-pole members, and a plurality of permanent magnets disposed between the central-magnetic-pole members and the peripheral-magnetic-pole members such that one magnetic pole thereof faces the central-magnetic-pole members and the other magnetic pole thereof faces the peripheral-magnetic-pole members. The plurality of permanent magnets disposed on the straight-line sections are thinner in the direction orthogonal to a target surface than at both end sections of a central section in the magnetization direction.
(FR)L'invention concerne un générateur de champ magnétique qui est utilisé dans la pulvérisation cathodique magnétron et qui comprend au moins un aimant permanent pour ajuster un champ magnétique, a une forme en forme de piste de course comprenant des sections rectilignes et des sections de coin. Le générateur de champ magnétique a, situés à sa base comprenant un matériau non magnétique, des éléments de pôle magnétique central en forme de barre, des éléments de pôle magnétique périphérique disposés de façon à entourer les éléments de pôle magnétique central et une pluralité d'aimants permanents disposés entre les éléments de pôle magnétique central et les éléments de pôle magnétique périphérique de telle sorte qu'un pôle magnétique decelui-ci fait face aux éléments de pôle magnétique central et que l'autre pôle magnétique de celui-ci fait face aux éléments de pôle magnétique périphérique. La pluralité d'aimants permanents disposés sur les sections rectilignes sont plus fins dans la direction orthogonale à la surface cible qu'aux deux sections d'une extrémité d'une section centrale dans la direction de magnétisation.
(JA) 直線部及びコーナー部からなるレーストラック形状を有し、非磁性体からなるベース上に、棒状の中央磁極部材と、前記中央磁極部材を取り囲むように設置された外周磁極部材と、前記中央磁極部材と前記外周磁極部材との間に、一方の磁極が前記中央磁極部材に対向し、他方の磁極が前記外周磁極部材に対向するように設置された複数の永久磁石とを有し、前記直線部に設置された複数の永久磁石は、前記ターゲット表面に垂直な方向の厚さが磁化方向の中央部において両端部よりも薄い、少なくとも1つの磁場調節用永久磁石を含むマグネトロンスパッタリング用磁場発生装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)