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1. (WO2013114666) スパッタリングターゲット組立体

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/114666    国際出願番号:    PCT/JP2012/074460
国際公開日: 08.08.2013 国際出願日: 25.09.2012
予備審査請求日:    27.12.2012    
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OSADA Kozo [JP/JP]; (JP) (US only).
KURIHARA Toshiya [JP/JP]; (JP) (US only)
発明者: OSADA Kozo; (JP).
KURIHARA Toshiya; (JP)
代理人: OGOSHI Isamu; OGOSHI International Patent Office, HATSUMEIKAIKAN 5F, 9-14, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
2012-018089 31.01.2012 JP
(JA) スパッタリングターゲット組立体
要約: front page image
(EN)A sputtering target assembly in which a cylindrical target having a diameter of at least 100mm and a length of at least 1000mm is divided into at least three target pieces (A) such that the lines of division are in the circumferential direction and the divided target pieces (A) configure a sputtering target-backing bonded body (B) by laminating to or installing on a cylindrical or columnar backing body, and at least two bonded bodies (B) are aligned in the width direction, the sputtering target assembly being characterized in that, when each bonded body (B) is arranged as a sputtering target assembly, the dividing lines between the three target pieces present on the bonded body (B) are installed so that the dividing lines between adjacent divided target pieces are not in the same position. This invention addresses the problem of providing a sputtering target assembly capable of reducing failure from particle generation attributable to the piece-affixing part.
(FR)L'invention porte sur un ensemble de cible de pulvérisation cathodique, dans lequel ensemble une cible cylindrique ayant un diamètre d'au moins 100 mm et une longueur d'au moins 1000 mm est divisée en au moins trois pièces de cible (A) de telle sorte que les lignes de division sont dans la direction périphérique et que les pièces de cible divisées (A) constituent un corps relié de revers de cible de pulvérisation cathodique (B) par stratification ou installation sur un corps de revers cylindrique ou en colonne, et au moins deux corps reliés (B) sont alignés dans la direction de la largeur, l'ensemble de cible de pulvérisation cathodique étant caractérisé en ce que, quand chaque corps relié (B) est disposé comme ensemble de cible de pulvérisation cathodique, les lignes de division entre les trois pièces de cible présentes sur le corps relié (B) sont installées de telle sorte que les lignes de division entre des pièces de cible divisées adjacentes ne sont pas dans la même position. Cette invention vise à procurer un ensemble de cible de pulvérisation cathodique apte à réduire une défaillance à partir d'une génération de particules pouvant être attribuée à la partie de fixation de pièces.
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)