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1. WO2013114464 - 電子線干渉装置および電子線干渉法

公開番号 WO/2013/114464
公開日 08.08.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/000724
国際出願日 03.02.2012
IPC
H01J 37/295 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
26電子またはイオン顕微鏡;電子またはイオン回折管
295電子またはイオン回折管
H01J 37/22 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
22管と関連した光学または写真装置
CPC
G01N 23/041
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
02by transmitting the radiation through the material
04and forming images of the material
041Phase-contrast imaging, e.g. using grating interferometers
H01J 2237/221
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
22Treatment of data
221Image processing
H01J 2237/226
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
22Treatment of data
226Image reconstruction
H01J 2237/2505
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
25Tubes for localised analysis using electron or ion beams
2505characterised by their application
H01J 37/147
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
H01J 37/252
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
出願人
  • 株式会社日立製作所 HITACHI, LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 原田 研 HARADA, Ken [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 葛西 裕人 KASAI, Hiroto [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 原田 研 HARADA, Ken
  • 葛西 裕人 KASAI, Hiroto
代理人
  • 井上 学 INOUE, Manabu
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ELECTRON BEAM INTERFERENCE DEVICE AND ELECTRON BEAM INTERFERENCE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'INTERFÉRENCE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ D'INTERFÉRENCE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
(JA) 電子線干渉装置および電子線干渉法
要約
(EN)
The range and distance for which the interference of an electron beam is possible are limited, and electron beam interference is only realized within the range of this coherence length. Therefore, in the present invention, giving attention to the fact that a phase distribution reproduced and observed through interference microscopy is the difference in phase distributions of two waves used for interference, a difference image of phase distributions between a predetermined observation region and a predetermined reference wave is obtained by continuously recording an interference image for each interference region width from the interference image between the reference wave and the observation region adjacent to the reference wave and deriving an integral of the phase distributions obtained by individually reproducing the interference images. By implementing this operation on each phase distribution and arranging the obtained phase distribution patterns in a predetermined order, an interference image over a wide range that exceeds the coherence length can be obtained.
(FR)
La plage et la distance permettant l'interférence d'un faisceau d'électrons sont limitées et l'interférence d'un faisceau d'électrons ne peut être réalisée que dans la plage de sa longueur de cohérence. La présente invention part du principe qu'une distribution de phase reproduite et observée par microscopie interférentielle est la différence des distributions de phase de deux ondes utilisées pour l'interférence pour obtenir un image différentielle des distributions de phase entre une région d'observation prédéterminée et une onde de référence prédéterminée, par enregistrement continu d'une figure d'interférence pour chaque largeur région d'interférence à partir de la figure d'interférence, entre l'onde de référence et la région d'observation adjacente à l'onde de référence et par dérivation d'une intégrale des distributions de phase par reproduction individuelle des images d'interférence. La mise en œuvre de cette opération pour chaque distribution de phase et l'agencement des motifs de distribution de phase obtenus selon un ordre prédéterminé permettent d'obtenir une figure d'interférence sur une plage étalée supérieure à la longueur de cohérence.
(JA)
電子線が干渉可能な範囲、距離には限界があり、この可干渉距離の範囲内でしか、電子線干渉は実現されない。そこで、干渉顕微鏡法により再生、観察される位相分布は、干渉に用いた2つの波のそれぞれの位相分布の差分であることに着目し、参照波と参照波と隣接する観察領域との干渉像から、干渉領域幅ごとに連続的に干渉像を記録し、それら干渉像を個別に再生して得られた位相分布の積算を求めることによって、所定の観察領域と所定の参照波との位相分布の差分像を得る。この作業を各々の位相分布に実施し、得られた位相分布像を所定の順に配列することにより、可干渉距離を越えた広範囲の干渉像を得ることを可能とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報