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1. (WO2013111720) 基板検査装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/111720    国際出願番号:    PCT/JP2013/051135
国際公開日: 01.08.2013 国際出願日: 22.01.2013
IPC:
G01B 11/24 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP)
発明者: SEKI, Masanori;
代理人: FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2012-012890 25.01.2012 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT
(JA) 基板検査装置
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a substrate inspection device capable of increasing the accuracy of detecting the amount of warping for a substrate. A substrate inspection device (100) includes: a substrate transfer unit (15) for transferring horizontally in-plane a planar substrate (1) having a surface (2); a light irradiation unit (11) for obliquely irradiating the surface (2) of the substrate (1) with inspection light (21) while the substrate is being transferred horizontally in-plane; and a light receiving unit (12) for receiving the reflection light (22) of the inspection light (21) reflected from the surface (2). The light receiving unit (12), which includes a plurality of light-receiving elements, is provided so as to be capable of outputting the intensity of the reflection light (22) received by each of the light-receiving elements. The substrate inspection device (100) also includes a computation unit (13). The computation unit (13) detects the position of the center of gravity for the reflection light (22) in accordance with the intensity of the reflection light (22) received by each of the light-receiving elements, and computes the amount of warping of the substrate (1) from the results of detecting the position of the center of gravity.
(FR)Le but de la présente invention est de fournir un dispositif d'inspection de substrat capable d'augmenter la précision de détection de la quantité de gauchissement d'un substrat. Un dispositif d'inspection de substrat (100) comprend : une unité de transfert de substrat (15) pour transférer horizontalement dans le plan un substrat plat (1) ayant une surface (2) ; une unité d'irradiation de lumière (11) pour irradier obliquement la surface (2) avec une lumière d'inspection (21) du substrat (1) tandis que le substrat est transféré horizontalement dans le plan ; et une unité de réception de lumière (12) pour recevoir la lumière de réflexion (22) de la lumière d'inspection (21) réfléchie à partir de la surface (2). L'unité de réception de lumière (12), qui comprend plusieurs éléments de réception de lumière, est prévue pour être capable de délivrer en sortie l'intensité de la lumière de réflexion (22) reçue par chacun des éléments de réception de lumière. Le dispositif d'inspection de substrat (100) comprend également une unité de calcul (13). L'unité de calcul (13) détecte la position du centre de gravité pour la lumière de réflexion (22) en fonction de l'intensité de la lumière de réflexion (22) reçue par chacun des éléments de réception de lumière, et calcule la quantité de gauchissement du substrat (1) à partir des résultats de détection de la position du centre de gravité.
(JA) 基板の反り量の検出精度を向上できる基板検査装置を提供する。基板検査装置(100)は、表面(2)を有する平板形状の基板(1)を面方向に移動させる基板搬送部(15)と、面方向に移動中の基板(1)の表面(2)に対し傾斜した方向に検査光(21)を照射する光照射部(11)と、表面(2)で検査光(21)が反射した反射光(22)を受光する受光部(12)と、を備える。受光部(12)は、複数の受光素子を含み、受光素子の各々が受光した反射光(22)の強度を出力可能に設けられている。基板検査装置(100)はさらに、演算部(13)を備える。演算部(13)は、受光素子の各々が受光した反射光(22)の強度に従い反射光(22)の重心位置を検出し、重心位置の検出結果より基板(1)の反り量を演算する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)