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1. (WO2013111363) 静電チャック
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/111363    国際出願番号:    PCT/JP2012/066397
国際公開日: 01.08.2013 国際出願日: 27.06.2012
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), B23Q 3/15 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
出願人: KYOCERA CORPORATION [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ONO,Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ONO,Hiroshi; (JP)
優先権情報:
2012-014336 26.01.2012 JP
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) PORTE-SUBSTRAT ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック
要約: front page image
(EN)This electrostatic chuck is characterized in that: the electrostatic chuck includes a ceramic base body (2), and an attracting electrode (3), which is provided inside of or on a lower surface of the ceramic base body (2); and the electrostatic chuck has a portion having a manganese (Mn) content of 1×10-4 mass % or less in a region from an upper surface of the ceramic base body (2) to the attracting electrode (3). Consequently, since an increase of residual attraction with time is suppressed, wafers can be easily removed, and the electrostatic chuck, from which a subject to be processed can be easily removed, is provided.
(FR)Porte-substrat électrostatique caractérisé en ce qu'il comprend un corps (2) de base en céramique, et une électrode d'attraction (3) qui est disposée à l'intérieur ou sur une surface inférieure du corps de base en céramique (2); et en ce qu'il comporte une partie ayant une teneur en manganèse (Mn) de 1 × 10 -4% en masse ou moins, dans une région allant d'une surface supérieure du corps (2) de la base en céramique à l'électrode (3) d'attraction. Par conséquent, étant donné que l'accroissement dans le temps de la force d'attraction résiduelle est supprimé, les plaquettes peuvent être facilement retirées, ce qui permet d'obtenir un porte-substrat électrostatique permettant un retrait aisé de l'objet à traiter.
(JA)本発明は、セラミック基体(2)と、セラミック基体(2)の内部または下面に設けられた吸着用電極(3)とを含み、セラミック基体(2)の上面から吸着用電極(3)までの領域においてマンガン(Mn)の含有量が1×10-4質量%以下となる部分を有することを特徴とする静電チャックである。これにより、残留吸着の経時的な増加が抑制されるため、ウェハの離脱が容易になり、被加工物の離脱しやすい静電チャックを実現することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)