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1. WO2013089082 - 基板露光装置および基板露光方法

公開番号 WO/2013/089082
公開日 20.06.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/082020
国際出願日 11.12.2012
IPC
G03F 7/20 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
G02F 1/13 2006.1
G物理学
02光学
F光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
CPC
G03F 7/7035
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
7035Proximity or contact printer
G03F 7/70933
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70933Purge
出願人
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 大畑 公孝 OHHATA, Kimitaka (US)
  • 星加 諒 HOSHIKA, Ryo (US)
発明者
  • 大畑 公孝 OHHATA, Kimitaka
  • 星加 諒 HOSHIKA, Ryo
代理人
  • 特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.
優先権情報
2011-27346114.12.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE EXPOSURE DEVICE AND SUBSTRATE EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT
(JA) 基板露光装置および基板露光方法
要約
(EN) A substrate exposure device (101) is provided with: a stage (1) for holding a substrate (2); a movement mechanism (7) for moving the substrate (2) relative to an exposure mask (3), in a state in which the exposure mask (3) is disposed in such a way as to lie parallel to the substrate (2) above the stage (1); a light source (5) for exposing at least part of the surface of the substrate (2) through the exposure mask (3); and a first gas supply mechanism (6) for holding the exposure mask (3) and the substrate (2) in such a way as not to make contact by producing a stream of gas (17) between the exposure mask (3) and the substrate (2).
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'exposition de substrat (101) qui est équipé d'un étage (1) permettant de tenir un substrat (2) ; d'un mécanisme de mouvement (7) permettant de déplacer le substrat (2) par rapport à un masque d'exposition (3), dans un état dans lequel le masque d'exposition (3) est disposé de façon à être parallèle au substrat (2) au-dessus de l'étage (1) ; d'une source de lumière (5) permettant l'exposition d'au moins une partie de la surface du substrat (2) à travers le masque d'exposition (3) ; et d'un premier mécanisme d'alimentation en gaz (6) permettant de tenir le masque d'exposition (3) et le substrat (2) de façon à ne pas établir de contact par la production d'un courant de gaz (17) entre le masque d'exposition (3) et le substrat (2).
(JA)  基板露光装置(101)は、基板(2)を保持するためのステージ(1)と、ステージ(1)の上方において基板(2)と平行になるように露光マスク(3)が配置された状態で、基板(2)を露光マスク(3)に対して相対的に移動させるための移送機構(7)と、露光マスク(3)を介して基板(2)の表面の少なくとも一部に対して露光をするための光源(5)と、露光マスク(3)と基板(2)との間に気体(17)を流すことによって露光マスク(3)と基板(2)とが接触しないように保つための第1気体供給機構(6)とを備える。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報