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1. (WO2013058023) 洗浄装置及び洗浄方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/058023    国際出願番号:    PCT/JP2012/072538
国際公開日: 25.04.2013 国際出願日: 05.09.2012
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B08B 3/02 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-Cho, Abeno-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TANAKA Junichi; (米国のみ)
発明者: TANAKA Junichi;
代理人: SANO Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
優先権情報:
2011-230373 20.10.2011 JP
発明の名称: (EN) CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄装置及び洗浄方法
要約: front page image
(EN)A cleaning device (1) for removing contamination on the surface of a substrate (B) is provided with: a generation section (70) for generating microscopic ozone bubble-containing water; a spray section (31) for spraying the microscopic ozone bubble-containing water generated by the generation section (70) toward the substrate (B); an ultraviolet light emission section (32) for emitting ultraviolet light for application to the substrate (B); and a cleaning section (30) for cleaning the surface of the substrate (B) by spraying the microscopic ozone bubble-containing water to the substrate (B) while applying thereto the ultraviolet light emitted from the ultraviolet light emission section (32).
(FR)La présente invention concerne un dispositif de nettoyage (1) pour l'élimination de contamination à la surface d'un substrat (B) équipé: d'une section de génération (70) pour la génération de l'eau ozonisée contenant des bulles microscopiques ; d'une section de pulvérisation (31) pour la pulvérisation de l'eau ozonisée contenant des bulles microscopiques générée par la section de génération (70) vers le substrat (B) ; d'une section d'émission de lumière ultraviolette (32) pour l'émission de lumière ultraviolette pour application au substrat (B) ; et d'une section de nettoyage (30) pour le nettoyage de la surface du substrat (B) par la pulvérisation de l'eau ozonisée contenant des bulles microscopiques vers le substrat (B) tout en y appliquant la lumière ultraviolette émise par la section d'émission de lumière ultraviolette (32).
(JA)基板(B)の表面の汚染を除去する洗浄装置(1)は、オゾンの微細気泡を含む水を生成する生成部(70)と、生成部(70)で生成された前記微細気泡を含む水を基板(B)に向けて噴射する噴射部(31)と、基板(B)に照射するための紫外線を発光する紫外線発光部(32)と、基板(B)に対して、紫外線発光部(32)からの紫外線を照射しながら前記微細気泡を含む水を噴射して、基板(B)の表面を洗浄する洗浄部(30)と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)