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1. (WO2013054883) 研摩材スラリー及び研摩方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/054883    国際出願番号:    PCT/JP2012/076446
国際公開日: 18.04.2013 国際出願日: 12.10.2012
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-11-1, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP)
発明者: SATO, Ryuichi; (JP).
MARUYAMA, Yohei; (JP).
KOIKE, Atsushi; (JP)
代理人: TANAKA AND OKAZAKI; Hongo K&K Bldg., 30-10, Hongo 3-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130033 (JP)
優先権情報:
2011-225625 13.10.2011 JP
2012-018931 31.01.2012 JP
発明の名称: (EN) POLISHING SLURRY, AND POLISHING METHOD
(FR) SUSPENSION ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研摩材スラリー及び研摩方法
要約: front page image
(EN)The present invention provides a polishing slurry capable of polishing extremely hard materials such as silicon carbide and gallium nitride at a high polishing speed. The present invention is a polishing slurry which is formed from a slurry containing manganese oxide particles and a manganate ion and which polishes extremely hard materials having a Mohs hardness of 8 or greater. In the present invention, the content of the manganese oxide particles within the slurry is preferably 1.0 mass % or more, the manganese oxide is preferably a manganese dioxide, and the manganate ion is preferably a permanganate ion. It is possible to smoothly and rapidly polish extremely-hard difficult-to-cut materials such as silicon carbide and gallium nitride with the polishing slurry of the present invention.
(FR)La présente invention concerne une suspension de polissage qui est apte à polir des matières extrêmement dures, telles que du carbure de silicium et du nitrure de gallium, à une vitesse de polissage élevée. La présente invention concerne une suspension de polissage qui est formée d'une suspension contenant des particules d'oxyde de manganèse et un ion manganate et qui polit des matières extrêmement dures ayant une dureté de Mohs d'au moins 8. Dans la présente invention, la teneur en particules d'oxyde de manganèse de la suspension est de préférence d'au moins 1,0 % en masse, l'oxyde de manganèse étant de préférence un dioxyde de manganèse et l'ion manganate étant de préférence un ion permanganate. Il est possible de polir rapidement et de manière lisse des matières difficiles à couper, extrêmement dures, telles que du carbure de silicium et du nitrure de gallium à l'aide de la suspension de polissage de la présente invention.
(JA) 本発明は、炭化ケイ素や窒化ガリウム等の高硬度材料も、高い研摩速度で研摩可能な研摩材スラリーを提供する。本発明は、酸化マンガン粒子とマンガン酸イオンとを含有したスラリーからなり、モース硬度で硬度8以上の高硬度材料を研摩するための研摩材スラリーである。本発明は、スラリー中の酸化マンガン粒子が1.0質量%以上であることが好ましく、酸化マンガンが二酸化マンガンであることが好ましく、マンガン酸イオンが過マンガン酸イオンであることが好ましい。本発明の研摩材スラリーによれば、炭化ケイ素や窒化ガリウム等の高硬度の難削材も、高速に平滑研摩が可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)