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1. (WO2013054633) 光電変換装置およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/054633    国際出願番号:    PCT/JP2012/073449
国際公開日: 18.04.2013 国際出願日: 13.09.2012
IPC:
H01L 31/04 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUGITA, Yoshitaka; (米国のみ).
KONDO, Michio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUI, Takuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUGITA, Yoshitaka; .
KONDO, Michio; (JP).
MATSUI, Takuya; (JP)
代理人: Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2011-225914 13.10.2011 JP
発明の名称: (EN) PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR CELUI-CI
(JA) 光電変換装置およびその製造方法
要約: front page image
(EN)A photoelectric conversion device comprising: a p-type semiconductor layer (120); an n-type semiconductor layer (140); and an i-type semiconductor layer (130) which is obtained by adding nitrogen to microcrystalline silicon-germanium, is positioned between the p-type semiconductor layer (120) and the n-type semiconductor layer (140), and constitutes a pin junction or a nip junction.
(FR)La présente invention porte sur un dispositif de conversion photoélectrique comprenant : une couche de semi-conducteur de type p (120) ; une couche de semi-conducteur de type n (140) ; et une couche de semi-conducteur de type i (130) positionnée entre la couche de semi-conducteur de type p (120) et la couche de semi-conducteur de type n (140), réalisant une jonction p-i-n ou une jonction n-i-p et ayant de l'azote ajouté à du silicium-germanium microcristallisé.
(JA) p型半導体層(120)と、n型半導体層(140)と、p型半導体層(120)とn型半導体層(140)との間に位置してpin接合またはnip接合を構成する、微結晶シリコンゲルマニウムに窒素が添加されたi型半導体層(130)とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)