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1. (WO2013051620) 低反射膜付き物品の製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/051620    国際出願番号:    PCT/JP2012/075680
国際公開日: 11.04.2013 国際出願日: 03.10.2012
B05D 5/06 (2006.01), B05D 1/28 (2006.01), C03C 17/25 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
発明者: OTANI, Yoshimi; (JP).
MOTOTANI, Satoshi; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
2011-219241 03.10.2011 JP
(JA) 低反射膜付き物品の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a method of manufacturing an object with a low reflection film, with which it is possible to form a low reflection film with which it is possible to handle a wide substrate, have a comparatively rapid speed of conveyance of the substrate, a comparatively low volume of required coating compound, a comparatively short time for drying, firing, and/or application, and a uniform thickness, as well as have superior thickness controllability whereby a low reflection film having thickness which is arbitrarily optically designable is easily formed. When forming, upon a substrate (2) which is conveyed in a prescribed direction, a low reflection film by applying a coating compound (20) by a coating roll (14) of a reverse roll coater (10), the rotation speed of the coating roll (14) is made slower than the conveyance speed of the substrate (2), and the coating compound (20) includes a dispersal medium (a), fine particles (b) which are dispersed in the dispersal medium (a), and a binder (c) which is either dissolved or dispersed in the dispersal medium (a), wherein the viscosity is 1-10mPa•s.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un objet doté d'un film antireflet, grâce auquel on forme un film antireflet qui va permettre de manipuler un substrat de grande largeur, d'avoir une vitesse d'acheminement relativement rapide du substrat, un volume relativement faible du composé d'enduction nécessaire, un temps de séchage, de cuisson et/ou d'application relativement court et une épaisseur uniforme, et d'avoir en outre une très grande facilité de contrôle de l'épaisseur. On forme ainsi, très facilement, un film antireflet dont l'épaisseur peut être conçue de façon arbitraire par voie optique. Pour former, sur un substrat (2) qui est acheminé dans un sens indiqué, un film antireflet par application d'un composé d'enduction (20) au moyen d'un rouleau d'enduction (14) d'un dispositif de rouleau d'induction inverse (10), on rend la vitesse de rotation du rouleau d'enduction (14) inférieure à la vitesse d'acheminement du substrat (2), le composé d'enduction (20) comprenant un milieu de dispersion (a), de fines particules (b) dispersées dans le milieu de dispersion (a), et un liant (c) dissout ou dispersé dans le milieu de dispersion (a), avec une viscosité de 1 à 10 mPa•s.
(JA)幅の広い基材に対応でき、基材の搬送速度を比較的速くでき、必要とされる塗料組成物の量が比較的少なく、乾燥または焼成時間や塗布時間が比較的短く、均一な膜厚を有する低反射膜を形成でき、かつ光学設計可能な任意の膜厚を有する低反射膜を形成しやすい膜厚制御性に優れる低反射膜付き物品の製造方法を提供する。 所定方向に搬送される基材(2)上に、リバースロールコータ(10)のコーティングロール(14)によって塗料組成物(20)を塗布し低反射膜を形成する際、コーティングロール(14)の回転速度を、基材(2)の搬送速度よりも遅くするとともに、塗料組成物(20)として、分散媒(a)と、分散媒(a)中に分散した微粒子(b)と、分散媒(a)中に溶解または分散したバインダ(c)とを含み、かつ粘度が1~10mPa・sのものを用いる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)