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1. (WO2013051442) リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/051442    国際出願番号:    PCT/JP2012/074698
国際公開日: 11.04.2013 国際出願日: 26.09.2012
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: OHNISHI, Ryuji; (JP).
ENDO, Takafumi; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2011-222121 06.10.2011 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR FORMING RESIST UPPERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY
(FR) COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM SUPÉRIEUR DE RÉSERVE POUR LITHOGRAPHIE
(JA) リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a composition for forming a resist upperlayer film for lithography, which can be used for forming a resist upperlayer film. [Solution] A composition for forming a resist upperlayer film, which contains a benzene compound having at least one amino group. The resist is an EUV resist or an electron beam resist. The benzene compound has at least one amino group and at least one alkyl group. The benzene compound has one or two amino groups and one to four alkyl groups. The benzene compound is a compound represented by formula (1) (wherein R1 to R5 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an amino group). The alkyl group is a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de cette invention consiste à proposer une composition permettant de former un film supérieur de réserve pour lithographie, qui puisse être utilisé pour la formation d'un tel film. La solution concerne une composition permettant de former un film supérieur de réserve, qui contient un composé benzène comportant au moins un groupement amine. La réserve est une réserve pour l'UV extrême ou pour faisceau électronique. Le composé benzène possède au moins un groupement amine et au moins un groupe alkyle. Le composé benzène possède un ou deux groupements amine et un à quatre groupes alkyle. Le composé benzène est un composé représenté par la formule (1) (dans laquelle R1 à R5 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle comportant 1 à 10 atomes de carbone ou un groupement amine). Le groupe alkyle est un groupe méthyle, éthyle ou isopropyle.
(JA)【課題】レジスト上層膜を形成するためのリソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】少なくとも1個のアミノ基を有するベンゼン化合物を含むレジスト上層膜形成組成物。レジストがEUVレジスト又は電子線レジストである。ベンゼン化合物が少なくとも1個のアミノ基と、少なくとも1個のアルキル基とを有するものである。ベンゼン化合物が1乃至2個のアミノ基と、1乃至4個のアルキル基とを有するものである。上記ベンゼン化合物が下記式(1):(式(1)中、R乃至Rはそれぞれ水素原子、炭素原子数1乃至10のアルキル基、又はアミノ基である。)の化合物である。上記アルキル基がメチル基、エチル基、又はイソプロピル基である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)