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1. (WO2013047733) 研磨用組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047733    国際出願番号:    PCT/JP2012/075051
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 28.09.2012
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01), H01L 27/105 (2006.01), H01L 45/00 (2006.01)
出願人: FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IZAWA, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US only).
YOSHIZAKI, Yukinobu [JP/JP]; (JP) (US only)
発明者: IZAWA, Yoshihiro; (JP).
YOSHIZAKI, Yukinobu; (JP)
代理人: ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
優先権情報:
2011-218721 30.09.2011 JP
発明の名称: (EN) POLISHING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物
要約: front page image
(EN)This polishing composition is used for the purpose of polishing an object of polishing that has a phase change alloy. This polishing composition is characterized by containing an ionic additive. Examples of the ionic additive include a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant and a cationic water-soluble polymer.
(FR)La présente invention concerne une composition de polissage qui est utilisée pour polir un objet possédant un alliage à changement de phase. Cette composition de polissage est caractérisée en ce qu'elle contient un additif ionique. Des exemples de l'additif ionique comprennent un agent tensioactif cationique, un agent tensioactif anionique, un agent tensioactif amphotère et un polymère cationique hydrosoluble.
(JA) 本発明の研磨用組成物は、相変化合金を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、イオン性添加剤を含有することを特徴とする。イオン性添加剤の例としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、及びカチオン性水溶性高分子が挙げられる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)