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1. (WO2013047586) フラットパネルディスプレイ用ガラス基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047586    国際出願番号:    PCT/JP2012/074707
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 26.09.2012
IPC:
C03C 3/091 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
出願人: AVANSTRATE INC. [JP/JP]; 2 Chitose-cho, Yokkaichi-shi, Mie 5100051 (JP)
発明者: KOYAMA, Akihiro; (JP).
AMI, Satoshi; (JP).
ICHIKAWA, Manabu; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2011-217582 30.09.2011 JP
2012-063408 21.03.2012 JP
発明の名称: (EN) GLASS SUBSTRATE FOR FLAT PANEL DISPLAY
(FR) SUBSTRAT DE VERRE POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE À PANNEAU PLAT
(JA) フラットパネルディスプレイ用ガラス基板
要約: front page image
(EN)Provided is a glass substrate for a flat panel display, said glass substrate combining productivity and reduction in thermal shrinkage coefficient and being suitable for a flat panel display using a TFT. A glass substrate on which a TFT is to be formed and which is to be used in producing a flat panel display, comprising, in molar %, 55 to 80% of SiO2, 3 to 20% of Al2O3 and 3 to 15% of B2O3, and having a (SiO2 - 1/2Al2O3) value of 70% or less, a (SiO2+2×Al2O3)/B2O3 molar ratio of more than 9.5 to 19.0, a devitrification temperature of lower than 1280°C, and a thermal shrinkage coefficient of 60ppm or less as determined after a glass specimen has been heated from ordinary temperature at a rate of 10°C/min, kept at 550°C for one hour, cooled to ordinary temperature at a rate of 10°C/min, heated again at a rate of 10°C/min, kept at 550°C for one hour, and then cooled to ordinary temperature at a rate of 10°C/min, and as represented by the formula: thermal shrinkage coefficient (ppm) = {shrinkage of the glass specimen caused by the heat treatment/length of the glass specimen before the heat treatment} × 106.
(FR)La présente invention concerne un substrat de verre pour dispositif d'affichage à panneau plat, ledit substrat de verre combinant les propriétés de productivité et de réduction du coefficient de contraction par refroidissement et étant approprié pour un dispositif d'affichage à panneau plat utilisant un TFT. L'invention concerne ainsi un substrat de verre sur lequel doit être formé un TFT et qui doit être utilisé pour produire un dispositif d'affichage à panneau plat, comprenant, en % en moles, de 55 à 80 % de SiO2, de 3 à 20 % d'Al2O3 et de 3 à 15 % de B2O3, et ayant une valeur (SiO2 - 1/2 Al2O3) inférieure ou égale à 70 %, un rapport molaire (SiO2 + 2 × Al2O3) / B2O3 situé dans la plage allant de plus de 9,5 à 19,0, une température de dévitrification inférieure à 1 280 °C, et un coefficient de contraction par refroidissement inférieur ou égal à 60 ppm tel que déterminé comme suit : l'échantillon de verre est chauffé à partir de la température ambiante à une vitesse de 10 °C/min, maintenu à 550 °C pendant une heure, refroidi jusqu'à la température ambiante à une vitesse de 10 °C/min, chauffé de nouveau à une vitesse de 10 °C/min, maintenu à 550 °C pendant une heure, et ensuite refroidi jusqu'à la température ambiante à une vitesse de 10 °C/min. Le coefficient de contraction par refroidissement est obtenu en utilisant la formule suivante : coefficient de contraction par refroidissement (ppm) = {contraction de l'échantillon de verre provoquée par le traitement thermique / longueur de l'échantillon de verre avant le traitement thermique} × 106.
(JA)生産性と熱収縮率の低減を両立した、TFTを用いたフラットパネルディスプレイに適したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。 モル%表示で、 SiO2 55~80%、 Al2O3 3~20%、 B2O3 3~15%、 SiO2-1/2Al2O3が70%以下であり、 モル比(SiO2+2×Al2O3)/B2O3が9.5超19.0以下であり、 失透温度が1280℃未満であり、 常温から10℃/minで昇温し、550℃で1時間保持し、その後、10℃/minで常温まで降温し、再び10℃/minで昇温し、550℃で1時間保持し、10℃/minで常温まで降温した後の下記式で示される熱収縮率が60ppm以下である、TFTが形成されるフラットパネルディスプレイの製造に用いられるためのガラス基板。 熱収縮率(ppm)={熱処理前後のガラスの収縮量/熱処理前のガラスの長さ}×106
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)