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1. (WO2013047536) フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047536    国際出願番号:    PCT/JP2012/074598
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 25.09.2012
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: KASAHARA Kazuki; (JP).
IKEDA Norihiko; (JP)
代理人: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
優先権情報:
2011-218066 30.09.2011 JP
発明の名称: (EN) PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)The present invention involves a photoresist composition containing (A) a base polymer having a structural unit (I) represented by formula (1), (B) a water-repellent polymer, and (C) an acid-generating body. In formula (1): R1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. R2 and R3 are, independently, each a hydrogen atom, a fluorine atom, a hydroxy group or a monovalent organic group with one to twenty carbons, or R2 and R3 are combined with each other to represent a ring structure with three to twenty carbons constituted in conjunction with a carbon atom to which R2 and R3 are bonded (however, there are no cases in which R2 and R3 are together a hydroxy group); R4 and R5 are, independently, each a hydrogen atom or a monovalent organic group with one to twenty carbons, or R4 and R5 are combined with each other to represent a ring structure with three to twenty carbons constituted in conjunction with a carbon atom to which R4 and R5 are bonded.
(FR)La présente invention se rapporte à une composition de résine photosensible qui contient (A) un polymère de base qui possède une unité structurelle (I) représentée par la formule (1), (B) un polymère hydrofuge et (C) un corps produisant de l'acide. Dans la formule (1) : R1 est un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R2 et R3 sont, indépendamment, chacun un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydroxy ou un groupe organique monovalent comportant de un à vingt carbones, ou R2 et R3 sont combinés l'un à l'autre afin de représenter une structure annulaire comportant de trois à vingt carbones constitués conjointement avec un atome de carbone auquel R2 et R3 sont liés (toutefois, il n'y a pas de cas où R2 et R3 sont ensemble un groupe hydroxy) ; R4 et R5 sont, indépendamment, chacun un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent comportant de un à vingt carbones, ou R4 et R5 sont combinés l'un à l'autre afin de représenter une structure annulaire comportant de trois à vingt carbones constitués conjointement avec un atome de carbone auquel R4 et R5 sont liés.
(JA) 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有するベース重合体、[B]撥水性重合体、及び[C]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、Rは、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はR及びRが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3~20の環構造を表す。但し、RとRが共にヒドロキシ基である場合はない。R及びRは、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はR及びRが互いに合わせられこれらが結合している炭素原子と共に構成される炭素数3~20の環構造を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)