WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2013047524) 光学素子材料、及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047524    国際出願番号:    PCT/JP2012/074568
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 25.09.2012
IPC:
C08F 226/12 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 16/32 (2006.01), C08F 220/10 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01)
出願人: MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Irifune 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048502 (JP)
発明者: HAYASHIDA, Yoshihisa; (JP).
SATSUKA, Takuro; (JP).
IKEDA, Teruyo; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
優先権情報:
2011-211445 27.09.2011 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL ELEMENT MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MATÉRIAU D'ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 光学素子材料、及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is an optical element material, characterized in being obtained by curing a resin composition for photoimprinting, wherein the content weight ratio of a photocurable monomer (A) represented by formula (1) and a photocurable monomer (B) represented by formula (2) is 30/70 to 87/13 and the content of a photopolymerization initiator (C) is 0.01 to 30 parts by weight per the total of 100 parts by weight of the photocurable monomer (A) and the photocurable monomer (B). Also provided is a method for producing the same. (In formula (1), R1 is a -CH=CH2, -CH2CH2-O-CH=CH2, -CH2CH2-O-CO-CH=CH2, -CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2, -CH2-C(CH3)=CH2, or a glycidyl group. R2 and R3 are the same or different and are hydrogen or C1-4 alkyl groups. In formula (2), R4 and R5 are the same or different and -O-CH=CH2, O-CH2CH2-O-CH=CH2, -O-CO-CH=CH2, -O-CO-C(CH3)=CH2, -O-CH2CH2-O-CO-CH=CH2, -O-CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2 or glycidyl ether groups. R6 and R7 are the same or different and are hydrogen or C1-4 alkyl groups.)
(FR)La présente invention concerne un matériau d'élément optique, caractérisé en ce qu'il est obtenu en durcissant une composition de résine destinée à la photoimpression, le rapport des teneurs en poids d'un monomère photodurcissable (A) représenté par la formule (1) et d'un monomère photodurcissable (B) représenté par la formule (2) étant situé dans la plage allant de 30/70 à 87/13 et la teneur en initiateur de photopolymérisation (C) étant située dans la plage allant de 0,01 à 30 parties en poids pour un total de 100 parties en poids d'un monomère photodurcissable (A) et d'un monomère photodurcissable (B). L'invention concerne également un procédé de production dudit matériau. (Dans la formule (1), R1 représente -CH=CH2, -CH2CH2-O-CH=CH2, -CH2CH2-O-CO-CH=CH2, -CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2, -CH2-C(CH3)=CH2, ou un groupe glycidyle. R2 et R3 sont identiques ou différents et représentent hydrogène ou des groupes alkyle en C1 à C4. Dans la formule (2), R4 et R5 sont identiques ou différents et représentent -O-CH=CH2, O-CH2CH2-O-CH=CH2, -O-CO-CH=CH2, -O-CO-C(CH3)=CH2, -O-CH2CH2-O-CO-CH=CH2, -O-CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2 ou des groupes glycidyle éther. R6 et R7 sont identiques ou différents et représentent hydrogène ou des groupes alkyle en C1 à C4.)
(JA) 式(1)の光硬化性モノマー(A)と式(2)の光硬化性モノマー(B)との含有重量比率が30/70~87/13であり、かつ、光重合開始剤(C)が、モノマー(A)とモノマー(B)の総重量100重量部に対して0.01~30重量部である光インプリント用樹脂組成物を硬化せしめてなり、硬化収縮率が4.5%以下である光学素子材料及びその製造方法。 ( 式( 1 ) 中、R1は、-CH=CH2 、-CH2CH2-O-CH=CH2 、-CH2-C(CH3)=CH2 又はグリシジル基;R2、R3は、独立して、水素又は炭素数1~4 のアルキル基;式(2)中、R4、R5 は、独立して、-O-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CH=CH2、-O-CO-CH=CH2、-O-CO-C(CH3)=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2 又はグリシジルエーテル基;R6、R7 は、独立して、水素又は炭素数1~4 のアルキル基を示す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)