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1. (WO2013047331) 表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047331    国際出願番号:    PCT/JP2012/074114
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 20.09.2012
IPC:
H05B 33/10 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01), H05B 33/24 (2006.01), H05B 33/26 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SONODA, Tohru; (US only).
OKAZAKI, Shoji; (US only).
KATSUI, Hiromitsu; (US only).
TANAKA, Tetsunori; (US only)
発明者: SONODA, Tohru; .
OKAZAKI, Shoji; .
KATSUI, Hiromitsu; .
TANAKA, Tetsunori;
代理人: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
優先権情報:
2011-209648 26.09.2011 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示装置の製造方法
要約: front page image
(EN)An IZO layer (113) is formed on top of an a-ITO layer (112); a resist pattern (202R/202G) with different film thicknesses is formed, at a minimum, in subpixels (71R/71G); and the a-ITO layer (112) and IZO layer (113) are etched, making use of both a reduction in the thickness of the resist pattern (202R/202G) due to ashing and changes in etching resistance due to conversion of the a-ITO layer (112) into a p-ITO layer (114).
(FR)Selon la présente invention, une couche d'IZO (113) est formée sur une couche d'ITO-a (112) ; un motif de résine (202R/202G) ayant différentes épaisseurs de film est formé au minimum dans des sous-pixels (71R/71G) ; et la couche d'ITO-a (112) et la couche d'IZO (113) sont gravées, en utilisant à la fois une réduction de l'épaisseur du motif de résine (202R/202G) due à l'incinération et des modifications de la résistance à la gravure dues à la conversion de la couche d'ITO-a (112) en couche d'ITO-p (114).
(JA) a-ITO層(112)上にIZO層(113)を成膜し、少なくともサブ画素(71R・71G)に膜厚が異なるレジストパターン(202R・202G)を形成し、アッシングによるレジストパターン(202R・202G)の薄膜化とa-ITO層(112)のp-ITO層(114)への転化を利用したエッチング耐性の変化とを利用してa-ITO層(112)およびIZO層(113)をエッチングする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)