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1. (WO2013047312) 模様形成用樹脂組成物、並びに、模様を有する樹脂成形品及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047312    国際出願番号:    PCT/JP2012/074027
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 20.09.2012
IPC:
C08L 51/04 (2006.01), C08L 25/06 (2006.01), C08L 71/12 (2006.01)
出願人: NAGASE & CO., LTD. [JP/JP]; 1-1-17, Shinmachi, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508668 (JP)
発明者: HAMAHIRA Eizo; (JP).
HORIKAWA Gen; (JP).
KIMURA Masaya; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2011-217771 30.09.2011 JP
発明の名称: (EN) RESIN COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND RESIN MOLDED ARTICLE HAVING PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUR LA FORMATION D'UN MOTIF ET ARTICLE MOULÉ DE RÉSINE AYANT UN MOTIF ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 模様形成用樹脂組成物、並びに、模様を有する樹脂成形品及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a resin composition for pattern formation, which comprises a polyphenylene ether resin and a polystyrene resin, and which can be used for producing a resin molded article having a pattern by molding the resin composition together with a thermoplastic resin having a molding processing temperature of 170-250˚C.
(FR)L'invention concerne sur une composition de résine pour la formation d'un motif, qui comprend une résine de polyphénylène éther et une résine de polystyrène et qui peut être utilisée pour produire un article moulé de résine ayant un motif par moulage de la composition de résine conjointement avec une résine thermoplastique ayant une température de traitement de moulage de 170-250˚C.
(JA)ポリフェニレンエーテル樹脂と、ポリスチレン樹脂と、を含む樹脂組成物であって、成形加工温度が170~250℃である熱可塑性樹脂を当該樹脂組成物とともに成形して模様を有する樹脂成形品を製造するために用いられる、模様形成用樹脂組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)