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1. (WO2013047228) 平版印刷版の製版方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/047228    国際出願番号:    PCT/JP2012/073577
国際公開日: 04.04.2013 国際出願日: 14.09.2012
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SONOKAWA Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUDA Tsubasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SONOKAWA Koji; (JP).
FUKUDA Tsubasa; (JP)
代理人: NOGUCHI Yasuhiro; NOGUCHI PATENT FIRM, Urban Toranomon Bldg., 16-4, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
2011-209916 26.09.2011 JP
(JA) 平版印刷版の製版方法
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate exhibiting excellent printing durability, ink adhesion, and stain resistance during printing, wherein it is possible to perform one bath treatment. This method for producing a lithographic printing plate is characterized by involving: a step for forming a negative lithographic printing original plate having, on a support body, a photopolymerizable light sensitive layer containing a urethane-acryl hybrid polymer and/or an acryl polymer having a monomer unit derived from a vinyl carbazole compound; a step for exposing the negative lithographic printing original plate for an image; and a step for developing the exposed negative lithographic printing original plate by means of a developing solution which at least contains a compound(component A) represented by formula (I) and water (component B) and has a pH between 4 and 10 and an organic solvent content of less than 5 mass%. Moreover, the method is characterized by not involving a water washing step and a gumming step before and after the developing step. In formula (I), R1 represents a substituted or non-substituted phenyl group, 1-naphthyl group or 2-naphthyl group, and n represents an integer between 4 and 20.
(FR)La présente invention a pour but de proposer un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique présentant une excellente durabilité d'impression, une excellente adhésion de l'encre et une excellente résistance aux taches pendant l'impression, dans lequel il est possible d'effectuer un traitement en bain. Ce procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique est caractérisé par le fait qu'il met en jeu : une étape de formation d'une plaque initiale d'impression lithographique négative ayant, sur un corps de support, une couche photopolymérisable sensible à la lumière contenant un polymère hybride uréthane-acrylique et/ou un polymère acrylique ayant une unité monomère issue d'un composé vinylcarbazole ; une étape d'exposition de la plaque initiale d'impression lithographique négative pour une image ; et une étape de développement de la plaque initiale d'impression lithographique négative exposée, au moyen d'une solution de développement qui contient au moins un composé (composant A) représenté par la formule (I) et de l'eau (composant B) et a un pH entre 4 et 10 et une teneur en solvant organique de moins de 5 % en masse. De plus, le procédé est caractérisé comme n'impliquant pas d'étape de lavage à l'eau et d'étape de gommage avant et après l'étape de développement. Dans la formule (I), R1 représente un groupe phényle substitué ou non substitué, un groupe 1-naphtyle ou un groupe 2-naphtyle, et n représente un entier entre 4 et 20.
(JA) 1浴処理が可能で、耐刷性、インキ着肉性、及び印刷時の汚れにくさに優れた平版印刷版の製版方法を提供することを目的とする。 本発明の平版印刷版の製版方法は、支持体上に、ビニルカルバゾール化合物由来のモノマー単位を有するアクリルポリマー、及び/又は、ウレタン-アクリルハイブリッドポリマーを含有する光重合性感光層を有するネガ型平版印刷版原版を作製する工程、前記ネガ型平版印刷版原版を画像様に露光する工程、及び、pH4~10であり、(成分A)式(I)で表される化合物、及び、(成分B)水、を少なくとも含み、有機溶剤の含有量が5質量%未満である現像液により、露光された前記ネガ型平版印刷版原版を現像する工程、を含み、前記現像工程の前後での水洗工程及びガム引き工程を含まないことを特徴とする。式(I)中、R1は置換若しくは無置換の、フェニル基、1-ナフチル基又は2-ナフチル基を表し、nは4~20の整数を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)