WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2013042694) (メタ)アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/042694    国際出願番号:    PCT/JP2012/073955
国際公開日: 28.03.2013 国際出願日: 19.09.2012
IPC:
C08F 20/28 (2006.01), C07C 69/54 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
出願人: KURARAY CO., LTD. [JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801 (JP)
発明者: FUKUMOTO, Takashi; (JP).
ARATANI, Ichihiro; (JP)
優先権情報:
2011-205571 21.09.2011 JP
発明の名称: (EN) (METH)ACRYLIC ACID ESTER DERIVATIVE, HIGH-MOLECULAR-WEIGHT COMPOUND, AND PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) DÉRIVÉ D'ESTER D'ACIDE (MÉTH)ACRYLIQUE, COMPOSÉ DE MASSE MOLÉCULAIRE ÉLEVÉE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) (メタ)アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: a specific (meth)acrylic acid ester derivative which has a high dissolution rate in a developing solution, cannot be swollen during development and therefore has improved LWR, and enables the formation of a photoresist pattern having high resolution; and a photoresist composition which contains a high-molecular-weight compound containing the derivative as a constituent unit. Specifically provided is a (meth)acrylic acid ester derivative represented by formula (1) (wherein, R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2, R3 and R4 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; W represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or a cyclic hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms; m represents an integer of 1 to 4; and n represents 0 or 1).
(FR)La présente invention a pour but de proposer : un dérivé d'ester d'acide (méth)acrylique spécifique qui a une vitesse de dissolution élevée dans une solution de développement, ne peut pas être gonflé pendant le développement et par conséquent a un LWR amélioré, et permet la formation d'un motif de résine photosensible ayant une résolution élevée ; et une composition de résine photosensible qui contient un composé de masse moléculaire élevée contenant le dérivé comme unité constitutive. De façon spécifique, l'invention concerne un dérivé d'ester d'acide (méth)acrylique représenté par la formule (1) (dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2, R3 et R4 représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1 à 5 atomes de carbone ; W représente un groupe alkylène ayant 1 à 10 atomes de carbone ou un groupe hydrocarboné cyclique ayant 4 à 10 atomes de carbone ; m représente un entier de 1 à 4 ; et n représente 0 ou 1).
(JA) 本発明の目的は、現像液に対して高い溶解速度を持ち、現像時の膨潤を抑制してLWRが改善され、高解像度のフォトレジストパターンが形成される、特定の(メタ)アクリル酸エステル誘導体、および該誘導体を構成単位として含有する高分子化合物を有するフォトレジスト組成物を提供することにある。具体的には、下記式(1) (式中、Rは水素原子またはメチル基を表す。R、RおよびRは、それぞれ独立して水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。Wは炭素数1~10のアルキレン基または炭素数4~10の環状炭化水素基を表す。mは1~4の整数を表す。nは0または1を表す。) で示される(メタ)アクリル酸エステル誘導体を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)