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World Intellectual Property Organization
1. (WO2013042655) ハードディスク用平坦化膜形成組成物

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/042655    国際出願番号:    PCT/JP2012/073816
国際公開日: 28.03.2013 国際出願日: 18.09.2012
G11B 5/65 (2006.01), B05D 7/00 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C09D 4/00 (2006.01), C09D 4/02 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), G11B 5/72 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: Kato, Taku; (JP).
Haraguchi, Masayuki; (JP).
Ozawa, Masaaki; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
2011-207129 22.09.2011 JP
(JA) ハードディスク用平坦化膜形成組成物
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a flattening film forming composition that is for a hard disk and that is able to prevent a magnetic material such as a cobalt component from diffusing to a filler section (nonmagnetic layer). [Solution] The flattening film forming composition for a hard disk is characterized by containing at least one polymer selected from the group consisting of a homopolymer, which has a divinyl aromatic compound-derived unit structure, and a copolymer having said unit structure, or a photopolymerizable coating material containing a mixture of the polymer and a photopolymerizable compound, the coating material containing 1-90 mol% of vinyl groups per mole of benzene rings. The photopolymerizable compound is a compound having an acrylate group, a methacrylate group, or a vinyl group. The polymer is a copolymer that further contains an addition polymerizable compound as a copolymerization component. A method for producing a hard disk includes: a first step for forming bumps and depressions on a magnetic body; a second step for coating the bumps and depressions with a flattening film forming composition; and a third step for flattening by means of etching and exposing the magnetic body surface.
(FR)L'invention a pour objet de réaliser une composition formant un film d'aplatissage qui est destinée à un disque dur et qui est capable d'empêcher un matériau magnétique tel que le cobalt de se diffuser vers une section de remplissage (couche non magnétique). Le composé formant un film d'aplatissage pour un disque dur est caractérisé en ce qu'il contient au moins un polymère choisi parmi le groupe composé d'un homopolymère, qui présente une structure unitaire dérivée d'un composé aromatique divinylique, et d'un copolymère ayant ladite structure unitaire, ou un matériau de revêtement photopolymérisable contenant un mélange du polymère et un composé photopolymérisable, le matériau de revêtement contenant 1-90 % mol. de groupes de vinyle par mole d'anneaux de benzène. Le composé photopolymérisable est un composé comprenant un groupe d'acrylates, un groupe de méthacrylates ou un groupe de vinyles. Le polymère est un copolymère qui contient en outre un composé polymérisable additionnel tel qu'un composant de copolymérisation. Un procédé de production d'un disque dur comprend : une première étape de formation de bosses et de dépressions sur un corps magnétique ; une deuxième étape d'enduction des bosses et des dépressions avec une composition formant un film d'aplatissage ; et une troisième étape d'aplatissage par gravure et exposition de la surface du corps magnétique.
(JA)【課題】 コバルト成分等の磁性材料が充填部(非磁性層)に拡散するのを防止することができるハードディスク用平坦化膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 ジビニル芳香族化合物由来の単位構造を有する単独重合体及び該単位構造を有する共重合体からなる群より選択される少なくとも1種の重合体、又は該重合体と光重合性化合物との混合物を含有する光重合性被覆材を含み、且つ該被覆材中にはベンゼン環1モル当り1~90モル%のビニル基を含有していることを特徴とするハードディスク用平坦化膜形成組成物。光重合性化合物がアクリレート基、メタクリレート基、又はビニル基を有する化合物である。重合体が更に付加重合性化合物を共重合成分として含む共重合体である。磁性体上に凹凸を形成する第1工程、該凹凸を平坦化膜形成組成物で被覆する第2工程、エッチングにより平坦化し磁性体表面を露出する第3工程を含むハードディスクの製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)