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1. (WO2013042328) 低温プラズマと触媒体を用いるガス処理装置および方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/042328    国際出願番号:    PCT/JP2012/005600
国際公開日: 28.03.2013 国際出願日: 04.09.2012
IPC:
B01D 53/86 (2006.01), A61L 9/00 (2006.01), B01J 8/02 (2006.01), B01J 23/10 (2006.01), B01J 23/42 (2006.01), B01J 23/44 (2006.01), B01J 23/52 (2006.01)
出願人: NBC MESHTEC, INC. [JP/JP]; 50-3, Toyoda 2-chome, Hino-shi, Tokyo 1910053 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IKEGAMI, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUMOTO, Takanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAYAMA, Tsuruo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
JIKIHARA Youhei [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IKEGAMI, Makoto; (JP).
MATSUMOTO, Takanori; (JP).
NAKAYAMA, Tsuruo; (JP).
JIKIHARA Youhei; (JP)
代理人: MIZUNO, Katsufumi; 721, Marunouchi-Nakadori Bldg., 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2011-206650 21.09.2011 JP
2012-082869 30.03.2012 JP
発明の名称: (EN) DEVICE AND METHOD FOR GAS TREATMENT USING LOW-TEMPERATURE PLASMA AND CATALYST MEDIUM
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE GAZ UTILISANT UN PLASMA À BASSE TEMPÉRATURE ET UN AGENT CATALYTIQUE
(JA) 低温プラズマと触媒体を用いるガス処理装置および方法
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a device and a method for oxidation decomposition treatment of a hazardous gas of a volatile organic compound (VOC) or the like at normal temperature. [Solution] A gas treatment device characterized in being provided with a plasma-generating unit and a catalyst medium. The plasma-generating unit is provided with at least a flow channel through which a gas to be treated flows; and a power-supply unit for supplying electrical power, a first electrode, a second electrode, and a dielectric material arranged inside the flow channel. A voltage is impressed between the first electrode and the second electrode by the power-supply unit and electrical discharging is caused to occur, whereby plasma is generated. The catalyst medium is adapted for accelerating a reaction with the gas to be treated and is provided in a position where the plasma generated by the plasma-generating unit inside the flow channel is present, wherein the catalyst medium has metallic catalytic particles present on an inorganic substance.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé pour le traitement de décomposition par oxydation d'un gaz dangereux d'un composé organique volatil (COV) ou analogue à température normale. L'invention concerne un dispositif de traitement de gaz caractérisé en ce qu'il est muni d'une unité de génération de plasma et d'un agent catalytique. L'unité de génération de plasma est munie d'au moins un canal d'écoulement au travers duquel un gaz à traiter s'écoule ; et d'une unité d'alimentation électrique destinée à fournir une puissance électrique, d'une première électrode, d'une seconde électrode, et d'un matériau diélectrique agencé dans le canal d'écoulement. Une tension est appliquée entre la première électrode et la seconde électrode par l'unité d'alimentation électrique et un déchargement électrique est provoqué, un plasma étant ainsi généré. L'agent catalytique est conçu pour accélérer une réaction avec le gaz à traiter et est agencé à une position où le plasma généré par l'unité de génération de plasma dans le canal d'écoulement est présent, l'agent catalytique contenant des particules catalytiques métalliques présentes sur une substance inorganique.
(JA)【課題】常温でVOC(揮発性有機化合物)などの有害ガスを酸化分解処理する装置、方法を提供することを目的とする。 【解決手段】処理対象のガスが流れる流路と、前記流路内に配置される、第1の電極と第2の電極と誘電体と電力を供給する電源部とを少なくとも備え、前記第1の電極と前記第2の電極の間に前記電源部により電圧を印加して放電を発生させることによりプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記流路内における前記プラズマ発生部によって発生したプラズマが存在する位置に設けられる、前記処理対象のガスの反応を促進する触媒体であって、無機物質上に存在する金属触媒粒子を有する触媒体と、を備えることを特徴とするガス処理装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)