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1. (WO2013039196) 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び薄膜パターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/039196    国際出願番号:    PCT/JP2012/073617
国際公開日: 21.03.2013 国際出願日: 14.09.2012
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUGIMOTO, Shigeto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAJIYAMA, Koichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIZUMURA, Michinobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUDO, Syuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIMURA, Eriko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
Hany Maher Aziz [CA/CA]; (CA) (米国のみ).
KAJIYAMA, Yoshitaka [JP/CA]; (CA) (米国のみ)
発明者: SUGIMOTO, Shigeto; (JP).
KAJIYAMA, Koichi; (JP).
MIZUMURA, Michinobu; (JP).
KUDO, Syuji; (JP).
KIMURA, Eriko; (JP).
Hany Maher Aziz; (CA).
KAJIYAMA, Yoshitaka; (CA)
代理人: SASAJIMA, Fujio; 7th Floor, Akasaka Eight One Building, 13-5, Nagata-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000014 (JP)
優先権情報:
2011-203154 16.09.2011 JP
2011-203155 16.09.2011 JP
2011-232538 24.10.2011 JP
2011-242089 04.11.2011 JP
2011-242090 04.11.2011 JP
2011-255298 22.11.2011 JP
2012-033657 20.02.2012 JP
2012-038101 24.02.2012 JP
2012-079207 30.03.2012 JP
2012-080707 30.03.2012 JP
発明の名称: (EN) VAPOR-DEPOSITION MASK, VAPOR-DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, AND THIN-FILM PATTERN FORMING METHOD
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE COUCHE MINCE
(JA) 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び薄膜パターン形成方法
要約: front page image
(EN)The present invention is a vapor-deposition mask for forming, by vapor deposition, a thin-film pattern of a certain shape on a substrate, wherein in correspondence with a pre-decided forming region of the thin-film pattern on the substrate, a resin film is provided that has formed therein a through opening pattern having the same formed dimensions as the thin-film pattern and that passes visible light.
(FR)La présente invention concerne un masque de dépôt en phase vapeur permettant, grâce à un dépôt en phase vapeur, de former sur un substrat un motif de couche mince ayant une certaine forme. En correspondance avec une région de formation préétablie du motif de couche mince sur le substrat, il est disposé une couche de résine dans laquelle il est formé un motif d'ouverture traversante qui a les mêmes dimensions de forme que le motif de couche mince et qui laisse passer la lumière visible.
(JA) 本発明は、基板上に一定形状の薄膜パターンを蒸着形成するための蒸着マスクであって、前記基板上に予め定められた前記薄膜パターンの形成領域に対応して、該薄膜パターンと形状寸法の同じ貫通する開口パターンを形成した可視光を透過する樹脂製のフィルムを備えて構成されたものである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)