WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

World Intellectual Property Organization
1. (WO2013038622) グラフェンの製造方法およびグラフェン

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/038622    国際出願番号:    PCT/JP2012/005646
国際公開日: 21.03.2013 国際出願日: 06.09.2012
C01B 31/02 (2006.01)
出願人: FUJI ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Tanabeshinden, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2109530 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUJII, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Mariko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUJII, Takeshi; (JP).
SATO, Mariko; (JP)
代理人: MATSUMOTO, Yoichi; c/o FUJI ELECTRIC CO., LTD., 1, Fuji-machi, Hino-shi, Tokyo 1918502 (JP)
2011-203509 16.09.2011 JP
(JA) グラフェンの製造方法およびグラフェン
要約: front page image
(EN)The present invention makes it possible to produce high-quality graphene which has reduced adhesion of metal microparticles of copper or the like that occurs in printing transfer processes, and which retains high mobility. The present invention comprises a step of growing graphene by supplying carbon to the surface of a transition metal substrate, a step of forming a resin support film on the graphene, a step of removing the transition metal substrate by etching, a step of bonding the graphene on the resin support film onto any desired substrate or layer, and a step of removing the resin support film, the present invention further comprising a step of clearing away metal particles present on the surface of the resin support film, prior to the step of removing the resin support film.
(FR)La présente invention concerne la production d'un graphène de haute qualité qui conserve une mobilité élevée et qui adhère moins aux microparticules métalliques de cuivre ou d'un métal équivalent, adhérence qui se produit lors des procédés de transfert d'impression. Le procédé de l'invention comprend les étapes suivantes : la formation de graphène en disposant du carbone sur la surface d'un substrat en métal de transition ; la formation d'un film de support en résine sur le graphène ; le retrait du substrat en métal de transition par décapage ; le collage du graphène se trouvant sur le film de support en résine sur n'importe quel substrat ou n'importe quelle couche souhaité ; et le retrait du film de support en résine. Le procédé comprend en outre une étape consistant à éliminer par nettoyage les particules métalliques présentes sur la surface du film de support en résine, avant le retrait du film de support en résine.
(JA) 転写プロセスの際に発生する、銅などの金属微粒子の付着を低減し、高い移動度を保った高品質のグラフェンを形成する。 遷移金属基板の表面に炭素を供給することでグラフェンを成長させる工程と、前記グラフェン上に樹脂支持膜を形成する工程と、前記遷移金属基板をエッチングにより除去する工程と、前記樹脂支持膜上のグラフェンを任意の基板あるいは層に貼り付ける工程と、前記樹脂支持膜を除去する工程とを有し、さらに、樹脂支持膜を除去する工程の前に、樹脂支持膜の表面に存在する金属微粒子を取り除く工程を有する
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)