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1. (WO2013035854) 密着露光装置及び密着露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035854    国際出願番号:    PCT/JP2012/072952
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 07.09.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NSK Technology Co., Ltd. [JP/JP]; 6-3, Ohsaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IKEBUCHI Hiroshi; (米国のみ).
MASUZOE Atsushi; (米国のみ).
OKATANI Hideki; (米国のみ)
発明者: IKEBUCHI Hiroshi; .
MASUZOE Atsushi; .
OKATANI Hideki;
代理人: HAMADA Yuriko; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2011-197363 09.09.2011 JP
2012-193297 03.09.2012 JP
発明の名称: (EN) CONTACT EXPOSURE DEVICE AND CONTACT EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION DE CONTACT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE CONTACT
(JA) 密着露光装置及び密着露光方法
要約: front page image
(EN)A holding surface (11a) of a substrate holding part (11) is provided with a plurality of first air flow holes (31) and a plurality of second air flow holes (32) provided outside the plurality of first air flow holes (31), the first air flow holes and the second air flow holes being bored toward the back surface of a workpiece (W), and on the inner peripheral side and the outer peripheral side of a region (E) in which the plurality of second air flow holes (32) are bored, annular inner peripheral side elastic member (33) and outer peripheral side elastic member (34) that are able to be in contact with the back surface of the workpiece (W) are disposed, respectively. Between a mask holding part (4) and the substrate holding part (11), an elastic sealing member (35) that surrounds a mask (M) and the workpiece (W) is provided, and a sealed space (S) is defined by the mask (M), the mask holding part (4), the substrate holding part (11), and the sealing member (35). A control means (30) causes the plurality of first air flow holes (31) to be open to the atmosphere, sucks in air from the plurality of second air flow holes (32), sucks in air within the sealed space (S) to make the pressure in the sealed space (S) negative pressure, and when the pressure in the sealed space (S) reaches a predetermined reference negative pressure, causes the plurality of second air flow holes (32) to be open to the atmosphere.
(FR)Selon l'invention, une surface de maintien (11a) d'une partie de maintien de substrat (11) comporte une pluralité de premiers trous de flux d'air (31) et une pluralité de seconds trous de flux d'air (32) disposés à l'extérieur de la pluralité de premiers trous de flux d'air (31), les premiers trous de flux d'air et les seconds trous de flux d'air étant percés vers la surface arrière d'une pièce de travail (W), et sur le côté périphérique intérieur et le côté périphérique extérieur d'une région (E) dans laquelle la pluralité de seconds trous de flux d'air (32) sont percés, sont disposés, respectivement, un élément élastique côté périphérique intérieur (32) et un élément élastique côté périphérique extérieur (34) annulaires, qui sont aptes à être en contact avec la surface arrière de la pièce de travail (W). Entre une partie de maintien de masque (4) et la partie de maintien de substrat (11), est disposé un élément d'étanchéité élastique (35) qui entoure un masque (M) et la pièce de travail (W), et un espace scellé (S) est défini par le masque (S), la partie de maintien de masque (4), la partie de maintien de substrat (11) et l'élément d'étanchéité (35). Un moyen de commande (30) amène la pluralité de premiers trous de flux d'air (31) à être ouverts à l'atmosphère, aspire de l'air depuis la pluralité de seconds trous de flux d'air (32), aspire de l'air dans l'espace scellé (S) pour amener la pression dans l'espace scellé (S) à être une pression négative, et lorsque la pression dans l'espace scellé (S) atteint une pression négative de référence prédéterminée, amène la pluralité de seconds trous de flux d'air (32) à être ouverts à l'atmosphère.
(JA) 基板保持部11の保持面11aには、ワークWの裏面に向けて開口する、複数の第1エア流通孔31、及び該複数の第1エア流通孔31よりも外側に設けられた複数の第2エア流通孔32と、を備え、複数の第2エア流通孔32が開口する領域Eの内周側及び外周側には、ワークWの裏面と接触可能な環状の内周側弾性部材33及び外周側弾性部材34がそれぞれ配置される。マスク保持部4と基板保持部11との間には、マスクM及びワークWを囲む、弾性の密封部材35が設けられ、マスクM、マスク保持部4、基板保持部11、及び密封部材35によって密封空間Sを画成する。制御手段30は、複数の第1エア流通孔31を大気開放し、複数の第2エア流通孔32からエアを吸引し、且つ、密封空間S内のエアを吸引して密封空間S内を負圧にし、密封空間S内の圧力が所定の基準負圧に達したとき、複数の第2エア流通孔32を大気開放する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)